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Ice particle forming and blasting device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24C-003/22
  • B24C-003/18
  • B24C-001/00
  • B08B-007/00
출원번호 US-0434982 (1989-11-09)
우선권정보 JP-0284921 (1988-11-11)
발명자 / 주소
  • Tada Masuo (Yao JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX)
출원인 / 주소
  • Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha (JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 7

초록

A solid surface cleaning device utilizes a jet of ice particles of ultrapure water for removing contaminants from a surface of a solid such as a semiconductor wafer. The electrical resistivity of ultrapure water stored in a tank is reduced by means of a gas such as dry air or carbon dioxide evolving

대표청구항

A solid surface cleaning device for removing contaminating materials attached to a surface of a solid body comprising: a tank for storing a liquid whose electrical resistivity is adjusted and reduced to a predetermined level; frozen particle generating means, coupled to said tank, for freezing liqui

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Whitlock Walter H. (Peapack NJ) Weltmer ; Jr. William R. (Murray Hill NJ) Clark James D. (Mountainside NJ), Apparatus and method for removing minute particles from a substrate.
  2. Guiller ; Jacques, Apparatus for freezing small drops of liquid.
  3. Fong Calvin C. (Beverly Hills CA) Altizer John W. (Simi Valley CA) Arnold Vernon E. (Fillmore CA) Lawson John K. (Granada Hills CA), Blasting machine utilizing sublimable particles.
  4. Ichinoseki Tsuyoshi ((Yoshizawa Jutaku E-206) No. 844-2 ; Yoshizawa-cho Mito-shi ; Ibaragi-ken JPX) Kato Hirobumi ((Hyakujuen Jutaku D-302) No. 2617-2 ; Motoyoshida-cho Mito-shi ; Ibaragi-ken JPX) Mi, Cleaning method.
  5. McFee Richard (R.D. 1 Union Springs NY 13160), Dual open cycle heat pump and engine.
  6. Carr Lawrence S. (150 Silvarado Trail-#53 Napa CA 94559), Media blast paint removal system.
  7. Tada Masuo (Osaka JPX) Akamatsu Kazuhiko (Hyogo JPX) Fukumoto Takaaki (Hyogo JPX) Ohmori Toshiaki (Hyogo JPX) Hyono Tadashi (Hyogo JPX), Method of processing base plate for magnetic disc.

이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Narayanswami Natraj ; Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Cavaliere William A., Aerodynamic aerosol chamber.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  4. Bran,Mario E., Apparatus for megasonic processing of an article.
  5. Luo Jih-Shiuan (Sam), Capacitor coupled chuck for carbon dioxide snow cleaning system.
  6. Bishop Phillip W. ; Harrover Alexander J., Carbon dioxide cleaning process.
  7. Bowers Charles W., Electrostatic discharge protection of static sensitive devices cleaned with carbon dioxide spray.
  8. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  9. Takeda Mamoru (Hirakata JPX) Kobayashi Ikunori (Sakai JPX) Uno Mitsuhiro (Neyagawa JPX), Liquid crystal display panel and method for manufacturing the panel.
  10. Jon Min-Chung (Princeton Junction NJ) Nicholl Hugh (Berthoud CO) Read Peter Hartpence (Morrisville PA), Method and apparatus for CO2 cleaning with mitigated ESD.
  11. Bjornard Erik J. (Northfield MN) Kurman Eric W. (Northfield MN) Shogren David A. (Lakeville MN) Hoffman Jeffrey J. (Inver Grove Heights MN), Method and apparatus for cleaning substrates in preparation for deposition of thin film coatings.
  12. Bran, Mario E., Method for megasonic processing of an article.
  13. Bran,Mario E., Method of cleaning a side of a thin flat substrate by applying sonic energy to the opposite side of the substrate.
  14. Bran, Mario E., Method of manufacturing integrated circuit devices.
  15. Goenka Lakhi Nandlal, Method of mitigating electrostatic charge during cleaning of electronic circuit boards.
  16. Kunkel, Pam; Narayanswani, Natraj; Patrin, John C., Nozzle design for generating fluid streams useful in the manufacture of microelectronic devices.
  17. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  18. Shaw, James Stephen, Shielded spin polishing.
  19. Bran, Mario E., System for megasonic processing of an article.
  20. Bran,Mario E., Transducer assembly for megasonic processing of an article and apparatus utilizing the same.
  21. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
  22. Bowers Charles W., Use of electrostatic bias to clean non-electrostatically sensitive components with a carbon dioxide spray.
  23. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  24. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  25. Bran Mario E., Wafer cleaning method.
  26. Mario E. Bran, Wafer cleaning method.
  27. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
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