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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0434982 (1989-11-09) |
우선권정보 | JP-0284921 (1988-11-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 27 인용 특허 : 7 |
A solid surface cleaning device utilizes a jet of ice particles of ultrapure water for removing contaminants from a surface of a solid such as a semiconductor wafer. The electrical resistivity of ultrapure water stored in a tank is reduced by means of a gas such as dry air or carbon dioxide evolving
A solid surface cleaning device for removing contaminating materials attached to a surface of a solid body comprising: a tank for storing a liquid whose electrical resistivity is adjusted and reduced to a predetermined level; frozen particle generating means, coupled to said tank, for freezing liqui
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