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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0180208 (1988-04-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 36 인용 특허 : 3 |
A method and apparatus for controlling the milling of an ablatable material and the like from substrate is disclosed. Embodiments for controlling the milling of ablatable materials and the like by pulses of high intensity radiant energy are described. The control process is accomplished by generatin
A method for selective and controlled removal of ablatable material from a surface on a substrate in order to achieve a desired surface contour, comprising the steps of: (a) premapping a given area of the substrate and generating a premap electronic signal representative of the three dimensional top
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