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Method for cleaning exhaust gases 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/34
출원번호 US-0200886 (1988-06-01)
우선권정보 JP-0134932 (1987-06-01); JP-0134931 (1987-06-01)
발명자 / 주소
  • Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX) Hiramoto Tadashi (Kanagawa JPX) Sasaki Kohhei (Kanagawa JPX)
출원인 / 주소
  • Japan Pionics, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 3

초록

A method for cleaning an exhaust gas comprising a base gas and at least one toxic component selected from the group consisting of arsine, phosphine, diborane and hydrogen selenide is disclosed. The method comprises contacting the exhaust gas with a molded cleaning agent having a composition consisti

대표청구항

A method for cleaning an exhaust gas comprising a base gas and at least one toxic component selected from the group consisting of arsine, phosphine, diborane and hydrogen selenide, which comprises contacting the exhaust gas at an inlet exhaust gas temperature between -20°and 40°C. with a molded clea

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX), Method for cleaning exhaust gases.
  2. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX), Method for detecting gaseous hydrides.
  3. Nishino Hiroshi (Suita JPX) Aibe Toshio (Kashima JPX), Method for removal of poisonous gases.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Harada Isao,JPX ; Komohara Sadaichi,JPX, Agent for and process of treating exhaust gas.
  2. Kenji Otsuka JP; Yutaka Amijima JP; Ryuji Hasemi JP; Youji Nawa JP, Cleaning agent and cleaning process of harmful gas.
  3. Holst, Mark; Carpenter, Kent; Lane, Scott; Arya, Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  4. Nozawa Shigeyoshi,JPX ; Tomita Shinji,JPX, Gas recovery unit utilizing dual use of gas.
  5. Rebecca Faller ; Mark Holst, In-situ air oxidation treatment of MOCVD process effluent.
  6. Hayes, Michael W.; Holst, Mark R.; Arno, Jose I.; Tom, Glenn M., Integrated ion implant scrubber system.
  7. Michael W. Hayes ; Mark R. Holst ; Jose I. Arno, Integrated ion implant scrubber system.
  8. Sweeney, Joseph D.; Marganski, Paul J.; Olander, W. Karl; Wang, Luping, Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream.
  9. Sweeney,Joseph D.; Marganski,Paul J.; Olander,W. Karl, Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream.
  10. Hard, Robert A., Methods to control H2S and arsine emissions.
  11. Li Yao-En ; Duchateau Eric L., Process and system for selective abatement of reactive gases and recovery of perfluorocompound gases.
  12. Li Yao-En ; Paganessi Joseph E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  13. Li Yao-En ; Paganessi Joseph E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  14. Li Yao-En ; Paganessi Jospeh E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  15. Li Yao-En ; Paganessi Jospeh E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  16. Li Yao-En ; Paganessi Jospeh E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  17. Li, Yao-En; Paganessi, Joseph E.; Vassallo, David; Fleming, Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  18. Yao-En Li ; Jospeh E. Paganessi ; David Vassallo ; Gregory K. Fleming, Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  19. Coronado,Paul R.; Coleman,Sabre J.; Sanner,Robert D.; Dias,Victoria L.; Reynolds,John G., Solid materials for removing arsenic and method thereof.
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