$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Lithographic apparatus for structuring a subject 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01V-037/317
출원번호 US-0395976 (1989-08-21)
우선권정보 DE-3831526 (1988-09-16)
발명자 / 주소
  • Lischke Burkard (Munich DEX)
출원인 / 주소
  • Siemens Aktiengesellschaft (Berlin and Munich DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 7

초록

In modern electron beam writers, the subject to be structured is simultaneously processed with a plurality of probes or electron beams. The apparatus of the present invention, instead of sub-dividing a single electron beam into a plurality of probes, utilizes a beam generator having a plurality of s

대표청구항

A lithographic apparatus for structuring a subject with a plurality of particle probes, said apparatus comprising a beam generator composed of a plurality of sources for particle beams arranged in a line, and a first telecentric unit for focussing the particle beams to form particle probes onto the

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Le Poole Jan B. (Kennedyplantsoen 56 Voorschoten NLX), Charged particle beam exposure device incorporating beam splitting.
  2. Harrah Larry A. (Albuquerque NM) Mead Keith E. (Peralta NM) Smith Henry M. (Overland Park KS granted to U.S. Department of Energy under the provisions of 42 U.S.C. 2182), Combination moisture and hydrogen getter.
  3. Howard Bruce S. (Mercer Island WA), Detection of electrically conductive materials beneath surface coatings employing eddy currents.
  4. Matsuda ; Takashi, Electron beam exposure apparatus.
  5. Lischke Burkhard (Munich DEX), Lithographic apparatus for the production of microstructures.
  6. Trotel Jacques (Paris FRX), Microlithographic system using a charged particle beam.
  7. Pease Roger F. W. (Holmdel NJ), Multiple beam exposure system.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Kruit, Pieter, Apparatus for generating a plurality of beamlets.
  2. Kruit,Pieter, Apparatus for generating a plurality of beamlets.
  3. Kruit,Pieter, Apparatus for generating a plurality of beamlets.
  4. Kruit,Pieter, Apparatus for generating a plurality of beamlets.
  5. Kruit, Pieter, Charged particle beam exposure system.
  6. Parker,N. William, Detector optics for charged particle beam inspection system.
  7. Muraki Masato,JPX, Electron-beam exposure apparatus and method.
  8. Sogard Michael R. ; McCoy John, High throughput electron beam lithography system.
  9. Goldstein, Vladimir, Method and apparatus for cooling foodstuff.
  10. Goldstein, Vladimir, Method and apparatus for cooling foodstuff.
  11. Hamaguchi, Shinichi; Haraguchi, Takeshi; Yasuda, Hiroshi, Multi-beam exposure apparatus using a multi-axis electron lens, fabrication method of a semiconductor device.
  12. Yin, Edward M.; Brodie, Alan D.; Parker, N. William; Tsai, Frank Ching-Feng, Multi-beam multi-column electron beam inspection system.
  13. Hartley, John G., Multi-beam shaped beam lithography system.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로