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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0321223 (1989-03-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 6 |
A wafer transport apparatus for an ion implantation apparatus includes means for successively transferring wafers from a wafer cassette, inserting the wafers into an auxiliary vacuum chamber, transferring the wafers into a specific position within a vacuum processing chamber, transferring a wafer fr
An ion implantation apparatus, comprising: a vacuum processing chamber in which a wafer is subjected to ion implantation processing; first and second auxiliary vacuum chambers each of which is hermetically sealable from or connectable to the outer atmosphere and vacuum processing chamber, and each o
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