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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0381914 (1989-07-19) |
우선권정보 | JP-0181225 (1988-07-20); JP-0006892 (1989-01-13) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 48 인용 특허 : 1 |
A metal material characterized in that a film passivated by fluorination which is mainly composed of a metal fluoride substantially satisfying stoichiometric ratio is formed at least partially on a surface of a metal of the metal material, and an apparatus at least partially composed of the metal ma
A metal material comprising a metal substrate, and a passivated film formed on at least a portion of the surface of the metal substrate by fluorination of the metal substrate, said film being composed mainly of a metal fluoride in which the proportion of metal to fluorine is substantially in stoichi
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