[특허]Hydrodynamic fume scrubber

Vector Technical Group, Inc. (Santa Clara CA 02)

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Hydrodynamic fume scrubber

특허상세정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01D-047/08
미국특허분류(USC)	55/228 ; 55/230 ; 55/233 ; 261/361
출원번호	US-0451306 (1989-12-15)
발명자 / 주소	Carr William J. (San Jose CA) Krummen Raymond S. (Los Gatos CA)
출원인 / 주소	Vector Technical Group, Inc. (Santa Clara CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 1

초록
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A self-cleaning, hydrodynamic fume scrubber for scrubbing a gaseous phase effluent with a scrubbing liquid, includes an inlet stage for receiving the particulate laden gaseous effluent. A negative pressure stage creates suction by spraying a first pressurized component of the scrubbing liquid into a stream of the effluent passing from the inlet stage. A main scrubbing chamber includes at least one hydrodynamic spray assembly driven by a second pressurized component of the scrubbing liquid; a filter media layer disposed below the spray assembly for filtering and mixing the effluent gas and scrubbing liquid; a scrubbing liquid, scrubbed gas separation region below the filter media for separating and discharging scrubbed gas effluent collected therein; a splash plate or diverter plate at the lower boundary of the separation region; and, a scrubbing liquid reservoir below the splash plate in a lowermost region of the chamber for receiving excess scrubbing liquid. Scrubbing liquid is supplied to the scrubber from a source, and is discharged from the reservoir to a drain at a flow rate matching incoming scrubbing liquid flow.

대표
청구항
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A hydrodynamic fume scrubber for scrubbing a gaseous phase effluent with a scrubbing liquid, the fume scrubber comprising: inlet means for receiving the particulate laden gaseous effluent into the scrubber and for providing a first effluent to scrubbing fluid interface, negative pressure providing means for drawing a stream of the effluent passing from the inlet means into a first pressurized component of the scrubbing liquid in a manner generating negative pressure with respect to the effluent, a main scrubbing chamber including: means for receiving the first pressurized component of the scrubbing liquid and the effluent stream from the negative pressure providing means into an upper region of the chamber, hydrodynamic spray means driven by a second pressurized component of the scrubbing liquid for hydrodynamically spraying the second component throughout the upper region of the chamber, filter media means disposed in a central region of the chamber for filtering and mixing the effluent gas and scrubbing liquid thereby to promote dissolution of components within the effluent which are soluble in the scrubbing liquid, a scrubbing liquid, scrubbed gas separation region within the chamber below the filter media means for separating and discharging scrubbed gas effluent collected therein, splash plate means at the lower boundary of the separation region for further breaking up particle masses formed within the scrubbing liquid as it drips from a lower surface of the filter media means through the separation region, scrubbing liquid reservoir means below the splash plate means in a lowermost region of the chamber for receiving excess scrubbing liquid, the scrubber further comprising scrubbing liquid supply means for supplying scrubbing liquid to the scrubber from a source thereof, and discharge means for discharging scrubbing liquid from the reservoir means at a flow rate approximating the flow rate of scrubbing liquid incoming from the supply means.

이 특허에 인용된 특허 (1)

Hackenjos Ernst (Munich DEX). Filter media. USP1980054203935.

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구성항목	관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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