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Hydrodynamic fume scrubber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-047/08
출원번호 US-0451306 (1989-12-15)
발명자 / 주소
  • Carr William J. (San Jose CA) Krummen Raymond S. (Los Gatos CA)
출원인 / 주소
  • Vector Technical Group, Inc. (Santa Clara CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 1

초록

A self-cleaning, hydrodynamic fume scrubber for scrubbing a gaseous phase effluent with a scrubbing liquid, includes an inlet stage for receiving the particulate laden gaseous effluent. A negative pressure stage creates suction by spraying a first pressurized component of the scrubbing liquid into a

대표청구항

A hydrodynamic fume scrubber for scrubbing a gaseous phase effluent with a scrubbing liquid, the fume scrubber comprising: inlet means for receiving the particulate laden gaseous effluent into the scrubber and for providing a first effluent to scrubbing fluid interface, negative pressure providing m

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Hackenjos Ernst (Munich DEX), Filter media.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Herman Timothy L. ; Ellis Jack ; Tsang Floris Y. ; Clark Daniel O. ; Flippo Belynda ; Inori David ; Kaarup Keith ; Morgenlaender Mark ; Mao Aaron, Advanced apparatus for abatement of gaseous pollutants.
  2. Ferron, Shawn; Kelly, John; Vermeulen, Robbert, Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants.
  3. Moore Robert R. ; Getty James D. ; Safiullin Ravil, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  4. Moore, Robert R.; Getty, James D.; Safiullin, Ravil, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  5. Robert R. Moore ; James D. Getty ; Ravil Safiullin, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  6. Williams, Michael; Barthman, Michael, Arrangement and method for abating effluent from a process.
  7. Lane Scott ; Shah Dinesh ; Colman Ronald,GB2 ; Heading Liam R.,GB6 ; Simpson Eric,GBX, Flow-stabilized wet scrubber system for treatment of process gases from semiconductor manufacturing operations.
  8. Harry M. Castrantas ; Scott W. Duggan, In situ gas scrubbing method and system for odor and corrosion control in wastewater collection systems.
  9. Sundholm, Göran, Method and apparatus for purifying a gas flow.
  10. Herman, Timothy L.; Ellis, Jack; Tsang, Floris Y.; Clark, Daniel O.; Flippo, Belynda G.; Inori, David; Kaarup, Keith; Morgenlaender, Mark; Mao, Aaron, Method for abatement of gaseous pollutants.
  11. Williams, Michael; Barthman, Michael, Method for abating effluent from an etching process.
  12. Moore,Robert R.; Getty,James D.; Safiullin,Ravil, Method for decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  13. Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
  14. Jeffrey J. Kalpakoff, Misting pump and housing system.
  15. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
  16. Gray, R. O'Neal, System and method for generating electricity.
  17. Gray, R. O'Neal, System and method for generating electricity.
  18. Carpenter Kent H., System for stabilization of pressure perturbations from oxidation systems for treatment of process gases from semicondu.
  19. Kuniaki Horie JP; Masahito Abe JP; Tsutomu Nakada JP; Yuji Araki JP, Trap apparatus.
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