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Multiple-imaging charged particle-beam exposure system

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/00
출원번호 US-0471280 (1990-01-26)
우선권정보 JP-0024506 (1989-02-02); JP-0024507 (1989-02-02); JP-0024508 (1989-02-02)
발명자 / 주소
  • Ando Masaaki (Fujisawa JPX) Matsuzaka Masaaki (Fujisawa JPX) Saita Masahiro (Zushi JPX)
출원인 / 주소
  • Nippon Seiko Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 4

초록

A multiple-imaging charged particle-beam exposure system includes a charged particle beam source, and a screen lens having lens apertures therein. A charged particle beam is emitted from the charged particle beam source. A beam emerging from each of the lens apertures of the screen lens is irradiate

대표청구항

In a multiple-imaging charged particle-beam exposure system including a charged particle beam source, a blanker for deflecting a charged particle beam emitted from said charged particle beam source, an object aperture for shaping the cross-section of the charged particle beam emerging from said blan

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Le Poole Jan B. (Kennedyplantsoen 56 Voorschoten NLX), Charged particle beam exposure device incorporating beam splitting.
  2. Ishitani Tohru (Sayama JPX) Todokoro Hideo (Nishitama JPX) Kawanami Yoshimi (Kokubungi JPX) Tamura Hifumi (Hachioji JPX), Ion microbeam apparatus.
  3. Smith Donald O. (Lexington MA) Harte Kenneth J. (Carlisle MA), Method and apparatus for exposing multi-level registered patterns interchangeably between stations of a multi-station el.
  4. Westerberg Eugene R. (Palo Alto CA) Brodie Ivor (Palo Alto CA), Parallel charged particle beam exposure system.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Kruit, Pieter, Charged particle beam exposure system.
  2. Stengl,Gerhard; Platzgummer,Elmar; Loschner,Hans, Charged-particle multi-beam exposure apparatus.
  3. Edwin G. Haas ; Robert M. Gutowski ; Vincent S. Calia, Fluid nozzle system and method in an emitted energy system for photolithography.
  4. Haas Edwin G. ; Gutowski Robert M. ; Calia Vincent S., Fluid nozzle system and method in an emitted energy system for photolithography.
  5. Haas Edwin G. ; Peacock Michael A. ; Gutowski Robert M., Holder assembly system and method in an emitted energy system for photolithography.
  6. Haas Edwin G. ; Christina Vincent A. ; Hartley ; Jr. Richard A. ; Abel Bruce D. ; Todd Alan M. M., Method and apparatus for adjustably supporting a light source for use in photolithography.
  7. Gutowski Robert M. ; Calia Vincent ; Todd Alan M., Method and apparatus for producing extreme ultra-violet light for use in photolithography.
  8. Fragner, Heinrich; Platzgummer, Elmar, Method for maskless particle-beam exposure.
  9. Platzgummer, Elmar, Method for maskless particle-beam exposure.
  10. Haas Edwin G. ; Gutowski Robert M. ; Calia Vincent S., Method of manufacturing very small diameter deep passages.
  11. Park, Melvin A.; Koester, Claus, Multideflector.
  12. Park, Melvin; Koster, Claus, Multideflector.
  13. Kruit, Pieter; Zhang, Yanxia; Van Bruggen, Martijn J.; Steenbrink, Stijn Willem Herman Karel, Multiple beam charged particle optical system.
  14. Kruit, Pieter; Zhang, Yanxia; Van Bruggen, Martijn J.; Steenbrink, Stijn Willem Herman Karel, Multiple beam charged particle optical system.
  15. Gordon Michael ; Golladay Steven ; Robinson Chris ; Rockrohr James, On-line dynamic corrections adjustment method.
  16. Loschner,Hans; Stengl,Gerhard; Vonach,Herbert; Platzgummer,Elmar, Particle multibeam lithography.
  17. Knippelmeyer, Rainer; Kienzle, Oliver; Kemen, Thomas; Mueller, Heiko; Uhlemann, Stephan; Haider, Maximilian; Casares, Antonio; Rogers, Steven, Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements.
  18. Knippelmeyer, Rainer; Kienzle, Oliver; Kemen, Thomas; Mueller, Heiko; Uhlemann, Stephan; Haider, Maximilian; Casares, Antonio; Rogers, Steven, Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements.
  19. Knippelmeyer, Rainer; Kienzle, Oliver; Kemen, Thomas; Mueller, Heiko; Uhlemann, Stephan; Haider, Maximillian; Casares, Antonio; Rogers, Steven, Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements.
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