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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0471280 (1990-01-26) |
우선권정보 | JP-0024506 (1989-02-02); JP-0024507 (1989-02-02); JP-0024508 (1989-02-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 4 |
A multiple-imaging charged particle-beam exposure system includes a charged particle beam source, and a screen lens having lens apertures therein. A charged particle beam is emitted from the charged particle beam source. A beam emerging from each of the lens apertures of the screen lens is irradiate
In a multiple-imaging charged particle-beam exposure system including a charged particle beam source, a blanker for deflecting a charged particle beam emitted from said charged particle beam source, an object aperture for shaping the cross-section of the charged particle beam emerging from said blan
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