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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0451766 (1989-12-18) |
우선권정보 | JP-0173833 (1986-07-25); JP-0173834 (1986-07-25); JP-0319429 (1988-12-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 6 |
A plasma CVD apparatus having a rotary vacuum reaction vessel, a starting gas introducing port, an ambient gas introducing port, an exhaust port, electrodes or an induction coil for applying a high-frequency electric field, and a cooling pipe provided in the starting gas introducing port for cooling
A plasma CVD apparatus comprising: a rotatable plasma reaction vessel; a starting gas introducing pipe for introducing a starting gas thereinto; an ambient gas introducing pipe opening into said reaction vessel for introducing an ambient gas thereinto; an exhaust pipe opening out of said reaction ve
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