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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0434709 (1989-11-13) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 4 |
A recirculating chemical bath arrangement includes a quartz process tank, and a sump chamber disposed directly adjacent to the process tank. A trough extends about the top portion of the outer walls of the process tank, the trough being inclined to cause gravital flow toward the sump chamber. The su
A recirculating, high purity chemical bath, including a first vessel for containing a liquid chemical bath, heater means for transmitting heat to said liquid chemical bath through the wall of said first vessel, a second vessel disposed directly adjacent to said first vessel and having an upper end s
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