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Quartz integrated trough/sump recirculating filtered high-purity chemical bath 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • E03B-007/07
출원번호 US-0434709 (1989-11-13)
발명자 / 주소
  • Berman Allan (1295 Forgewood Ave. Sunnyvale CA 94089)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 4

초록

A recirculating chemical bath arrangement includes a quartz process tank, and a sump chamber disposed directly adjacent to the process tank. A trough extends about the top portion of the outer walls of the process tank, the trough being inclined to cause gravital flow toward the sump chamber. The su

대표청구항

A recirculating, high purity chemical bath, including a first vessel for containing a liquid chemical bath, heater means for transmitting heat to said liquid chemical bath through the wall of said first vessel, a second vessel disposed directly adjacent to said first vessel and having an upper end s

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Lange ; Norbert G., Apparatus for multi-phase fluid systems.
  2. Jessop Thomas C. (Webster NY), Automatic liquid feed and circulation system for a photographic film processor.
  3. Lange Norbert G. (Sanborn NY), Entrance duct with weir.
  4. Cheney Bruce R. (Vernon CT), Rinsing tank.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Hedgpeth,Rick L., Apparatus and use thereof in cleaning a respiratory device.
  2. Liu Lee-Cheng ; Perlman Timothy J. ; Doyle Catherine A., Cell inoculation device.
  3. Mangat Pawitter Jit Singh ; Seese Philip Armin ; Dauksher William Joseph, Etching apparatus and method of etching a substrate.
  4. Mangat Pawitter Jit Singh ; Seese Philip Armin ; Dauksher William Joseph, Method of etching a substrate.
  5. Brunner,Roland; Schwenk,Helmut; Zach,Johann, Process for the wet chemical treatment of semiconductor wafers.
  6. Dickinson, Randall D.; Estrella, Mark J.; Lang, Nathan Norman, Recirculating bath.
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