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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0296323 (1989-01-10) |
우선권정보 | JP-0073222 (1985-04-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 5 |
A method of treating a waste solution resulting from the processing of a photographic material with a working solution is disclosed, wherein at least part of said waste solution is absorbed by a resin capable of absorbing at least 50 times its own weight of a liquid.
In a method of treating a waste solution resulting from the processing of a photographic material with a working solution, the improvement wherein at least part of said waste solution is absorbed by a resin which is capable of absorbing at least 30 times its own weight of a liquid.
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