$\require{mediawiki-texvc}$
  • 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색도움말
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"

통합검색

도움말도움말
상세검색 다국어 입력

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

특허 상세정보

MyON담기
내보내기 페이스북 공유 카카오톡 공유

Sulfuric acid reprocessor

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B44C-001/22    H01L-021/306    B01D-003/00   
미국특허분류(USC) 156/642 ; 156/345 ; 203/40
출원번호 US-0398074 (1989-08-24)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 37  인용 특허 : 2
초록
▼

An apparatus and method for reprocessing waste oxidant solution containing contaminated H2SO4 from, for example, a semiconductor processing operation to supply reprocessed ultrapure H2SO4 and ozone is described. The apparatus and method include a two distillation flasks which are maintained under a substantial vacuum. The first distillation flask includes a first column with a column packing means and a reflux means to retard loss of H2SO4 in the first distillation. The second distillation flask boils off substantially pure H2SO4 through a column which i...

대표
청구항

A process for the regeneration and repurification of ultrapure oxidant solution comprising ultrapure sulfuric acid (H2SO4) and ozone which is used in a chemical process at a chemical processing center, comprising: withdrawing at least a portion of said oxidant solution used in said chemical process; distilling said withdrawn oxidant to remove particles and dissolved impurities to form H2SO4; generating ozone and introducing said ozone into said H2SO4 to produce said ultrapure oxidant solution for use at said chemical processing center.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua. Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids used in semiconductor wafer c. USP1989084855023.
  2. Doble Florimel (Spring Valley CA) Gallego Jose M. (National City CA) Steidl El (Lakeside CA) Jaffari Cyrus (Alpine CA). Process for depleted chemical milling solutions. USP1989054826605.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 37

  1. Coulter, Bruce Lee. Actinic radiation reactor. USP2016069365435.
  2. Bergman, Eric J.; Hess, Mignon P.. Apparatus and method for delivering a treatment liquid and ozone to treat the surface of a workpiece. USP2003086601594.
  3. Osuda, Hiroshi; Matoba, Toru; Adachi, Daisuke; Fukuizumi, Masataka. Apparatus and method for distilling waste liquids. USP2003016508915.
  4. Osuda,Hiroshi; Matoba,Toru; Adachi,Daisuke; Fukuizumi,Masataka. Apparatus and method for distilling waste liquids. USP2007067232504.
  5. Bergman Eric J. ; Hess Mignon P.. Apparatus and method for processing the surface of a workpiece with ozone. USP2001086273108.
  6. Bergman Eric J. ; Hess Mignon P.. Apparatus and method for processing the surface of a workpiece with ozone. USP2001076267125.
  7. Bergman, Eric J.; Hess, Mignon P.. Apparatus and method for processing the surface of a workpiece with ozone. USP2003076591845.
  8. Bergman, Eric J.. Apparatus for treating a workpiece with steam and ozone. USP2005016837252.
  9. Yong, Zhee Min Jimmy; Stibitz, David; Coulter, Bruce Lee; Hoosier, Michael Scott. Baffle plates for an ultraviolet reactor. USP2013118591730.
  10. Freydina, Evgeniya. Electrically-driven separation apparatus. USP2010107820024.
  11. Clark R. Scot ; Baird Stephen S. ; Hoffman Joe G.. Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids. USP199909RE36290.
  12. Clark, R. Scot; Baird, Stephen S.; Hoffman, Joe G.. Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids. USP200302RE37972.
  13. Sichel, Cosima. Method and arrangement for a water treatment. USP2014118877067.
  14. Coulter, Bruce Lee. Method and system for providing ultrapure water. USP2014068741155.
  15. Coulter, Bruce Lee. Method and system for providing ultrapure water. USP2017099764968.
  16. Coulter, Bruce Lee. Method for measuring a concentration of a compound in a liquid stream. USP2015028961798.
  17. Bergman, Eric J.; Hess, Mignon P.. Method for processing the surface of a workpiece. USP2004116817370.
  18. Inagaki, Yasuhito. Method for recycling waste sulfuric acid. USP2010037682066.
  19. Bergman, Eric J.; Hess, Mignon P.. Method for treating the surface of a workpiece. USP2004036701941.
  20. Inagaki, Yasuhito. Method for utilizing sulfuric acid/peroxide liquid mixture. USP2003116649070.
  21. Inagaki, Yasuhito. Method for utilizing sulfuric acid/peroxide liquid mixture. USP2005116969743.
  22. Coulter, Bruce Lee. Method of irradiating a liquid. USP2016069365436.
  23. Ravi Iyer ; Ardavan Niroomand. Method to clean substrate and improve photoresist profile. USP2002056383723.
  24. Bergman,Eric J.. Methods of thinning a silicon wafer using HF and ozone. USP2008077404863.
  25. Grant Donald C. (Excelsior MN). Point-of-use recycling of wafer cleaning substances. USP1997055632866.
  26. Bergman, Eric J.. Process and apparatus for treating a workpiece such as a semiconductor wafer. USP2005036869487.
  27. Gebhart,Thomas Maximilia; Bergman,Eric J.. Process and apparatus for treating a workpiece using ozone. USP2007097264680.
  28. Bergman,Eric J.. Process and apparatus for treating a workpiece with gases. USP2008087416611.
  29. Bergman,Eric J.. Processing a workpiece using water, a base, and ozone. USP2007017163588.
  30. Miyazawa Ichiro,JPX. Semiconductor manufacture apparatus. USP2000056055995.
  31. Kiyohito Koizumi JP; Hiroshi Osuda JP; Toru Matoba JP; Masataka Fukuizumi JP; Takayuki Sadakata JP. System and method for continuously reprocessing waste sulfuric acid liquid, and heater supporting structure for heating a vessel made of glass. USP2002116477323.
  32. Coulter, Bruce Lee. System and method for measuring and treating a liquid stream. USP2017089725343.
  33. Bergman,Eric J.; Gebhart,Thomas Maximilian. System and methods for polishing a wafer. USP2008057378355.
  34. Coulter, Bruce Lee. System for controlling introduction of a reducing agent to a liquid stream. USP2014068753522.
  35. Inagaki,Yasuhito. System for recycling spent sulfuric acid, method for recycling spent sulfuric waste liquid, and recycled sulfuric acid. USP2008047360550.
  36. Sitkiewitz, Steve Donald; Carmignani, Gary Michael; Fredrick, Lee William. Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water. USP2014028652336.
  37. Goddard Earl Fenton,AUX. Water evaporation apparatus. USP1999085940578.

IPC 상위 출원인