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Processing method for semiconductor wafers

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/02
  • H01L-021/304
출원번호 US-0470372 (1990-01-25)
우선권정보 JP-0156061 (1987-06-23); JP-0313667 (1987-12-11)
발명자 / 주소
  • Tada, Masuo
  • Hata, Takeki
  • Fukumoto, Takaaki
  • Ohmori, Toshiaki
출원인 / 주소
  • Taiyo Sanso Co., Ltd., Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소
    Leydig, Voit & Mayer
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 9

초록

A cleaning method and a gettering method for semiconductor wafers comprises blasting frozen particles at the surface of a semiconductor wafer. A processing apparatus for a semiconductor wafer comprises means for forming ultrafine frozen particles and means for blasting the frozen particles at the su

대표청구항

1. A method of cleaning a semiconductor wafer comprising: blasting ice particles formed from ultrapure water containing carbon dioxide gas and having a specific resistance no more than 1 megohm-cm at a surface of a semiconductor wafer. 2. A method as claimed in claim 1, including blasting the i

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Whitlock Walter H. (Peapack NJ) Weltmer ; Jr. William R. (Murray Hill NJ) Clark James D. (Mountainside NJ), Apparatus and method for removing minute particles from a substrate.
  2. Guiller ; Jacques, Apparatus for freezing small drops of liquid.
  3. Fong Calvin C. (Beverly Hills CA) Altizer John W. (Simi Valley CA) Arnold Vernon E. (Fillmore CA) Lawson John K. (Granada Hills CA), Blasting machine utilizing sublimable particles.
  4. Ichinoseki Tsuyoshi ((Yoshizawa Jutaku E-206) No. 844-2 ; Yoshizawa-cho Mito-shi ; Ibaragi-ken JPX) Kato Hirobumi ((Hyakujuen Jutaku D-302) No. 2617-2 ; Motoyoshida-cho Mito-shi ; Ibaragi-ken JPX) Mi, Cleaning method.
  5. McFee Richard (R.D. 1 Union Springs NY 13160), Dual open cycle heat pump and engine.
  6. Nagae Akemi (Hyogo JPX) Satou Shinichi (Hyogo JPX) Fukumoto Takaaki (Hyogo JPX) Ohmori Toshiaki (Hyogo JPX), Introducing lattice defect with ice particles in semiconductor wafer.
  7. Carr Lawrence S. (150 Silvarado Trail-#53 Napa CA 94559), Media blast paint removal system.
  8. Oura Hiroyuki (Nara JPX) Hata Takeki (Hyogo JPX) Tada Masuo (Osaka JPX), Method and apparatus for producing microfine frozen particles.
  9. Hayashi Chikara (Chigasaki JPX), Process for removing covering film and apparatus therefor.

이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Bran,Mario E., Apparatus for megasonic processing of an article.
  4. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces.
  5. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  6. J B Canterberry ; Samuel Steven Schlueter ; John Herman Adams ; Robert Keith Walsh, Inflator.
  7. Germain Jean-Pierre,FRX ; Dubreuil Thierry,FRX, Method and device for sequentially spraying a cryogenic liquid, cooling method and installation making application thereof.
  8. Wen Ziying, Method for chemical processing semiconductor wafers.
  9. Harano, Riichiro; Furusawa, Masami; Joya, Satoshi, Method for cleaning a substrate using a sherbet-like composition.
  10. Bran, Mario E., Method for megasonic processing of an article.
  11. L.ang.ng, Kari; Mantyla, Pertti, Method for washing instruments used in semiconductor industry.
  12. Bran,Mario E., Method of cleaning a side of a thin flat substrate by applying sonic energy to the opposite side of the substrate.
  13. Bran, Mario E., Method of manufacturing integrated circuit devices.
  14. Sandhu, Gurtej S.; Sinha, Nishant, Methods for treating surfaces.
  15. Akselband,Boris; Carswell,Charles C.; Carswell,Craig R.; Goldman,Richard; Whitenack,Kathryn, Mist generation, freezing, and delivery system.
  16. Kutsch V. Kim (Albany OR) Everett Michael (Glendale CA), Process for the removal of soft tooth decay using a unique abrasive fluid stream.
  17. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  18. Bran, Mario E., System for megasonic processing of an article.
  19. Cates Michael C. ; Hamm Richard R. ; Hoogerwerl John D. ; Lewis Michael W. ; Schmitz Wayne N., System for removing a coating from a substrate.
  20. Belson, Amir, Temperature measurement and feedback for therapeutic hypothermia.
  21. Bran,Mario E., Transducer assembly for megasonic processing of an article and apparatus utilizing the same.
  22. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
  23. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  24. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  25. Bran Mario E., Wafer cleaning method.
  26. Mario E. Bran, Wafer cleaning method.
  27. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
  28. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
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