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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0512410 (1990-04-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 0 |
Low-level fluorine concentrations are removed from gases by conducting a gas stream containing fluorine over an alumina treated with chromium oxide material, thereby effectively eliminating fluorine from the gas while preventing the formation of toxic oxygen difluoride by-product.
A method of removing fluorine from gas streams, consisting essentially of: conducting a gas stream containing fluorine over an alumina having chromium oxide absorbed thereon thereby effectively eliminating fluorine from the gas while substantially preventing the formation of toxic oxygen difluoride
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