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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0563321 (1990-07-26) |
우선권정보 | JP-0196131 (1989-07-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0 |
A thin film gas-sensitive device includes an insulating substrate having a pair of electrodes, a gas-sensitive layer having a gas sensitive substance deposited on the insulating substrate and electrodes, and a catalytic layer deposited on the gas-sensitive layer and insulating substrate as a non-con
A thin film gas-sensitive device comprising: an insulating substrate having a pair of electrodes disposed theron; a gas-sensitive layer, having a gas sensitive substance, deposited on the insulating substrate and electrodes; and a catalytic layer deposited on the gas-sensitive layer and insulating s
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