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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0620611 (1990-12-03) |
우선권정보 | JP-0313370 (1989-12-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 32 인용 특허 : 0 |
Ion beams drawn out of a plurality of ion beam sources or neutralized beams derived therefrom are projected to a plurality of targets, and sputtered particles discharged from the targets are directed to a substrate. The composition of sputtered particles is measured in the vicinity to the substrate.
A method of forming a multiple-element thin film based on ion beam sputtering comprising: a step of producing ion beams or neutral beams which are neutralized ion beams with a plurality of ion beam sources; a step of projecting said ion beams or neutral beams to a plurality of targets for sputtering
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