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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0591121 (1990-10-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 60 인용 특허 : 0 |
Vaporized reactants, useful for chemical vapor deposition of a coating on the surface of a hot substrate, are prepared by initially heating a liquid coating precursor, injecting the liquid coating precursor into a vaporization chamber, simultaneously admitting a blend gas into the vaporization chamb
A process for preparing vaporized reactants, comprising the steps of: A) providing a coating precursor selected from metal or silicon compounds at a temperature above its melting point but substantially below its standard vaporization temperature, thereby causing the coating precursor to be in the f
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