최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0588394 (1990-09-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 0 |
Apparatus and a method for generating an RF plasma plume wherein hydrogen gas is introduced downstream of the means for injecting plasma gas in order to increase the coupling between the RF coil and the plume and to decrease heat loss to the plasma containment walls.
A method for RF plasma spray deposition comprising: (a) introducing a plasma gas into a chamber with an exit port, (b) applying RF energy to the chamber by means of an electrical conductor coil to create the plasma from the gas flowing in the chamber, (c) introducing a powder into the plasma, and (d
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.