[특허]Process for forming diamond coating using a silent discharge plasma jet process

Process for forming diamond coating using a silent discharge plasma jet process 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C01B-031/06
출원번호	US-0340995 (1989-04-20)
발명자 / 주소	Calcote Hartwell F. (Princeton NJ)
출원인 / 주소	Hercules Incorporated (Wilmington DE 02)
인용정보	피인용 횟수 : 56 인용 특허 : 0

초록 ▼

A novel process is disclosed for forming diamond coatings whereby a silent discharge, such as a DC glow discharge, is used to form a plasma containing activated species. The plasma is then expanded through a nozzle to form a low temperature plasma jet which contacts a substrate to form the diamond coating. The plasma initially contains a mixture of hydrogen and carbon based gases such as methane. In a preferred embodiment, hydrogen is initially present in the plasma and the carbon containing gas (carbon containing molecules e.g. methane, carbon monoxide) is subsequently mixed into the plasma jet downstream of the nozzle throat and allowed to react with the activated hydrogen, prior to the plasma jet contacting the substrate.

대표청구항 ▼

A method for preparing diamond coatings comprising: (a) generating a low temperature non-equilibrium plasma gas stream in a discharge chamber by exposing a first reactant gas to a silent electrical discharge; (b) expanding said low temperature non-equilibrium plasma gas stream into a region of lower pressure to form a plasma gas stream; (c) rapidly admixing a second reactant gas into said plasma gas stream; and then (d) directing said admixed plasma gas stream to contact a substrate to deposit a diamond film on said substrate.

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