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Method of preparing an antimicrobial wound dressing 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A61L-015/00
출원번호 US-0439472 (1989-11-21)
발명자 / 주소
  • Chvapil Milos (77 Duck Hill Rd. Tucson AZ) Barber Bruce (77 Duck Hill Rd. Duxbury MA 02331)
출원인 / 주소
  • Barber
  • Bruce A. (Duxbury MA 04)
인용정보 피인용 횟수 : 25  인용 특허 : 0

초록

An antimicrobial wound dressing and method of wound treatment, the wound dressing having a layer of a collagen dressing material impregnated with lyophilized, stabilized chlorine-containing compounds which generate on activation chlorine dioxide, like a mixture of sodium chlorate and sodium chlorite

대표청구항

A method of manufacturing an antimicrobial wound dressing, which method comprises the steps of: a) impregnating a first retaining dressing material selected from the group consisting of open cell foam materials, membrane materials, woven materials and non-woven materials with an alkali-stabilized aq

이 특허를 인용한 특허 (25)

  1. Code Kenneth Reay,CAXITX T5T 2R7, Absorbent composition.
  2. Govil, Sharad K.; Weimann, Ludwig J., Adhesive mixture for transdermal delivery of highly plasticizing drugs.
  3. Govil, Sharad K.; Weimann, Ludwig J., Adhesive mixture for transdermal delivery of highly plasticizing drugs.
  4. Govil,Sharad K.; Weimann,Ludwig J., Adhesive mixture for transdermal delivery of highly plasticizing drugs.
  5. Govil,Sharad K.; Weimann,Ludwig J., Adhesive mixture for transdermal delivery of highly plasticizing drugs.
  6. Lelah,Michael D.; Kampa,Joel J.; Barenberg,Sumner A., Antimicrobial body covering articles.
  7. Burba, III, John L.; Hassler, Carl R.; O'Kelley, C. Brock; Lupo, Joseph A.; Pascoe, Joseph R., Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic.
  8. Speronello, Barry Keven; Hratko, Linda; Castellana, Frank S.; Full, Andrew Patrick; Gomez, Marcos, Chlorine dioxide treatment for biological tissue.
  9. Burba, John, Composition and process for making the composition.
  10. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Composition for removing arsenic from aqueous streams.
  11. Speronello Barry K. ; Thangaraj Appadurai ; Yang Xiaolin, Composition for the controlled release of chlorine dioxide gas.
  12. Burba, III, John L., Composition for treating a fluid.
  13. Anthony R. Pitochelli ; Jennifer R. Miller, High concentration chlorine dioxide gel composition.
  14. Speronello, Barry K; Koermer, Gerald S.; Thangaraj, Appadurai; Moini, Ahmad, Massive bodies containing free halogen source for producing highly converted solutions of chlorine dioxide.
  15. Speronello,Barry K.; Thangaraj,Appadurai; Yang,Xiaolin, Method and system for the controlled release of chlorine dioxide gas.
  16. Gregory D. Simpson, Method for destroying chlorite in solution.
  17. Code Kenneth Reay,CAX, Method of delivering disinfectant in an absorbent substrate.
  18. Rafter John D. ; Grenier Joseph W. ; Denkewicz ; Jr. Raymond P., Method of water purification with oxides of chlorine.
  19. Speronello Barry K. ; Thangaraj Appadurai ; Yang Xiaolin, Method, composition and system for the controlled release of chlorine dioxide gas.
  20. Aamodt James ; Colvin John, Paper product impregnated with chemical material.
  21. Burba, III, John L.; Oriard, Tim L., Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant.
  22. Gunasekaran, Subramanian, Purifying type I collagen using two papain treatments and reducing and delipidation agents.
  23. Cable, Robert; Hassler, Carl; Burba, John, Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species.
  24. Psaras, Dimitrios; Gao, Yuan; Haneline, Mason; Lupo, Joseph; Landi, Carol, Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions.
  25. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Water purification device for arsenic removal.
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