$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Cleaning of CVD reactor used in the production of polycrystalline silicon by impacting with carbon dioxide pellets

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/00
출원번호 US-0760300 (1991-09-16)
발명자 / 주소
  • Goffnett David M. (Alma MI) Richardson Mark D. (Hemlock MI) Bielby Eugene F. (Saginaw MI)
출원인 / 주소
  • Hemlock Semiconductor Corporation (Hemlock MI 02)
인용정보 피인용 횟수 : 30  인용 특허 : 0

초록

The present invention is a process for the cleaning of the inner surfaces of a chemical vapor deposition reactor used in the production of polycrystalline silicon. The process comprises impacting the surfaces to be cleaned with solid carbon dioxide pellets. The carbon dioxide pellets dislodge silico

대표청구항

A process for cleaning the surfaces of a chemical vapor deposition reactor, the process comprising: impacting silicon deposits on the inner surfaces of a reactor used in chemical vapor deposition of a source gas selected from a group consisting of silane and halosilane to form polycrystalline silico

이 특허를 인용한 특허 (30)

  1. Xia Chang Feng, Aerosol assisted chemical cleaning method.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  4. Lewis, Paul E.; Ahmadi, Goodarz; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Apparatus for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  5. Hertlein, Harald; Popp, Friedrich, Cleaning of CVD production spaces.
  6. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  7. Millonzi, Richard P.; Foltz, Robert S.; Petralia, Richard C.; Caccamise, Leslie W.; Hammond, Harold F.; Crump, David P.; McCumiskey, Robert E.; Williams, Edward C., Hollow cylindrical imaging member treatment process with solid carbon dioxide pellets.
  8. Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly; Ko, Alexander; Endo, Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
  9. Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly; Ko, Alexander; Endo, Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
  10. Kurosawa, Yasushi; Oguro, Kyoji; Kurotani, Shinichi; Netsu, Shigeyoshi, Method for cleaning bell jar, method for producing polycrystalline silicon, and apparatus for drying bell jar.
  11. Benjamin Edward Andrews, Method for cleaning ductwork.
  12. Walter Jaeger DE, Method for discharging cutting products from a metal-cutting machining process.
  13. Takase, Taira; Nagayama, Nobuyuki; Mitsuhashi, Kouji; Nakayama, Hiroyuki, Method of cleaning a plasma processing apparatus.
  14. Graham Horridge GB, Method of cleaning the inside surface of ducts.
  15. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Methods for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  16. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for cleaning utilizing multi-stage filtered carbon dioxide.
  17. Boumerzoug,Mohamed; Tannous,Adel George, Methods for residue removal and corrosion prevention in a post-metal etch process.
  18. Boumerzoug, Mohamed; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  19. Boumerzoug,Mohamed; Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  20. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  21. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  22. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  23. Kirii, Seiichi; Kitagawa, Teruhisa, Polycrystalline silicon reactor.
  24. Philip G. Perry ; Rajiv S. Agarwala ; Jodie L. Morris ; Loren E. Hendrix ; Carmen W. Enos ; Gregory J. Arserio, Process for roughening a surface.
  25. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  26. Weckesser, Dirk, Reactor for producing polycrystalline silicon and method for removing a silicon-containing layer on a component of such a reactor.
  27. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
  28. Basceri,Cem; Sandhu,Gurtej S., Supercritical fluid technology for cleaning processing chambers and systems.
  29. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
  30. Gabzdyl, Jacek Tadeusz; Veldsman, Walter Mark, Weld preparation method.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트