[특허]Low temperature purification of gases

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C01B-031/18 C01B-031/20 C01B-003/58
출원번호	US-0467673 (1990-01-19)
발명자 / 주소	Jain Ravi (Piscataway NJ)
출원인 / 주소	The BOC Group, Inc. (New Providence NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 33 인용 특허 : 0

초록 ▼

A process for removing the impurities carbon monoxide, carbon dioxide, water vapor and, optionally, hydrogen from a feed stream comprising initially removing water and carbon dioxide, oxidizing carbon monoxide and hydrogen to form carbon dioxide and water vapor, respectively, and removing the oxidation products. The process may be conducted batchwise or continuously by carrying out purification in a plurality of treatment zones wherein one or more zones are being regenerated while one or more others are purifying the feed stream.

대표청구항 ▼

Process for producing a gaseous product substantially purified from impurities consisting of water vapor, carbon monoxide and carbon dioxide comprising: (a) removing water vapor from a gaseous feed stream containing said impurities and sufficient oxygen to convert all carbon monoxide present in said gaseous feed stream to carbon dioxide; (b) contacting the feed stream from step (a) with one or more oxidation catalysts to thereby convert carbon monoxide to carbon dioxide; and (c) removing carbon dioxide and any remaining water vapor from the gaseous product obtained in step (b) to obtain said substantially purified gaseous product.

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