[특허]Bichannel radiation detection method

Bichannel radiation detection method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01J-005/62 G01J-005/60 G01J-005/54 G01J-005/10
출원번호	US-0624206 (1990-12-07)
발명자 / 주소	Gat Arnon (Palo Alto CA) Mordo David (San Jose CA)
출원인 / 주소	AG Processing Technologies, Inc. (Sunnyvale CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 33 인용 특허 : 0

초록 ▼

The system and method for pyrometrically determining the temperature of a semiconductor wafer within a processing chamber accurately determines the actual emissivity of the semiconductor wafer at a reference temperature using multiple pyrometers operating at different wavelengths. The pyrometers are calibrated for radiation received from the processing chamber and their responses are then corrected to provide the proper temperature indication for a master wafer at a known reference temperature to yield emissivity of the master wafer. Other similar wafers exhibiting extreme values of emissivity are sensed at the reference temperature to provide pyrometer responses that are corrected in accordance with the master emissivity, and such corrected responses are used to establish a correlation between emissivities and the corrected pyrometer responses. The corrected pyrometer responses on other wafers operating near the reference temperature can then be used with the emissivities to determine the true temperature of each such other wafer. The processing temperature of the wafer is then determined and controlled in accordance with the actual emissivity of the wafer for more precise thermal processing.

대표청구항 ▼

A method for accurately determining in non-destructive, non-contacting manner the temperature within a processing chamber of an object that is selected from a population of similar objects using a plurality of pyrometers that operate in different wavebands on the radiation received through a wall of the processing chamber from an object within the chamber, the method comprising the steps of: substantially calibrating the responses of each pyrometer on a reference object within the chamber to yield corrected responses at at least one reference temperature; selecting a master object from the population of objects; determining master emissivities of the master object at a reference temperature within the chamber from the corrected responses of each of the calibrated pyrometers; altering the corrected pyrometer responses relative to the master emissivities to provide extreme values of emissivity from the corrected pyrometer responses to radiation at the reference temperature from within the chamber of each of a set of objects selected from said population which exhibit emissivities near extremes of the range of emissivities of objects in the population; providing signal values determined for each of said set of objects selected from said population from the responses of the corrected pyrometers which are altered i accordance with the master emissivities; determining a correlation between said signal values and the emissivity values of the objects providing the extreme values; elevating another object selected from said population to a temperature within the chamber near the reference temperature; calculating the emissivity values of said another object from the corrected responses of the pyrometers in accordance with said correlation; and altering the emissivity values of said another object within the chamber in accordance with the calculated emissivity values of said another object for determining the temperature of said another object within the chamber.

이 특허를 인용한 특허 (33)

Ish-Shalom Yaron,ILX ; Baharav Yael, Active pyrometry with emissivity extrapolation and compensation.
상세보기
Fei, Wang Jo; Tsen, Andy; Fan, Ming-Yu; Wang, Jill; Mou, Jong-I, Advanced process control with novel sampling policy.
상세보기
Vadim Boguslavskiy ; Alexander Gurary ; Ameesh Patel ; Jeffrey Ramer, Apparatus and method for controlling temperature uniformity of substrates.
상세보기
Champetier Robert J. ; Man Avner,ILX ; Gat Arnon ; Fabian Ram Z.,ILX, Apparatus and method for determining the temperature of a radiating surface.
상세보기
Champetier Robert J., Apparatus and method for determining the temperature of objects in thermal processing chambers.
상세보기
Hunter Aaron ; Yam Mark ; Mayur Abhilash J., Apparatus and method for thermally processing substrates including a processor using multiple detection signals.
상세보기
Champetier Robert J. ; Egozi David,ILX, Apparatus for determining the temperature of a semi-transparent radiating body.
상세보기
Doitel Zahi,ILX ; Hernik Arie,ILX ; Atzmon Ziv,ILX, Apparatus for measuring the processing temperature of workpieces particularly semiconductor wafers.
상세보기
Bevan,Edward James; Briggs,Max Michael; DiDomenico,John; Gedridge, Jr.,Robert W., Compact emissivity and temperature measuring infrared detector.
상세보기
Tate Naoto ; Sakai Tomoyuki,JPX ; Toda Naohisa,JPX ; Habuka Hitoshi,JPX, Heat-treating method and radiant heating device.
상세보기
Maurer Michael,DEX ; Lerch Wilfried,DEX ; Gschwandtner Alexander,DEX, Method and apparatus for determining emissivity of semiconductor material.
상세보기
Alexander Gurary ; Vadim Boguslavskiy ; Ameesh N. Patel ; Jeffrey C. Ramer, Method and apparatus for measuring the temperature of objects on a fast moving holder.
상세보기
Nenyei Zsolt (Blaustein DEX) Tillmann Andreas (Neu Ulm Pfuhl DEX) Walk Heinrich (Allmendingen DEX), Method and apparatus for wavevector selective pyrometry in rapid thermal processing systems.
상세보기
Dutartre Didier,FRX, Method for calibrating the temperature of an epitaxy reactor.
상세보기
Champetier Robert J. ; Egozi David,ILX, Method for determining the temperature of a semi-transparent radiating body.
상세보기
Shibata,Satoshi; Hirase,Junji; Sugiyama,Tatsuo; Kanasaki,Emi; Kawase,Fumitoshi; Naito,Yasushi, Method for measuring temperature, annealing method and method for fabricating semiconductor device.
상세보기
Paranjpe Ajit P. (Plano TX), Method for temperature measurement in rapid thermal process systems.
상세보기
Yoo Woo Sik, Mini batch furnace.
상세보기
Savas Stephen E. ; Hammond Martin L. ; Mueller Robert,DEX ; Daviet Jean-Fran.cedilla.ois,FRX, Model based method for wafer temperature control in a thermal processing system for semiconductor manufacturing.
상세보기
Kaplinsky Michael B. ; Kosonocky Walter F. ; McCaffrey Nathaniel J., Multi-wavelength imaging pyrometer.
상세보기
Masayuki Kitamura JP; Eisuke Morisaki JP; Nobuaki Takahashi JP; Takashi Shigeoka JP, Radiation temperature measuring method and radiation temperature measuring system.
상세보기
Dawson Robert ; Hause Frederick N. ; May Charles E., Rapid thermal anneal system and method including improved temperature sensing and monitoring.
상세보기
Gronet Christian M. ; Gibbons James F., Rapid thermal heating apparatus and method.
상세보기
Christian M. Gronet ; James F. Gibbons, Rapid thermal heating apparatus and method including an infrared camera to measure substrate temperature.
상세보기
Yoo Woo Sik, Resistively heated single wafer furnace.
상세보기
Fiory Anthony T. (Summit NJ), Semiconductor processing technique, including pyrometric measurement of radiantly heated bodies and an apparatus for pra.
상세보기
Woo Sik Yoo, Single wafer annealing oven.
상세보기
Guardado Julio L., System and process for calibrating pyrometers in thermal processing chambers.
상세보기
Johnsgard Kristian E. ; McDiarmid James, Thermal processing system with supplemental resistive heater and shielded optical pyrometry.
상세보기
Okamoto Akira,JPX ; Kobayashi Shigeru,JPX ; Shimamura Hideaki,JPX ; Tsuzuku Susumu,JPX ; Nishitani Eisuke,JPX ; Kisimoto Satosi,JPX ; Yoneoka Yuji,JPX, Vacuum processing apparatus, and a film deposition apparatus and a film deposition method both using the vacuum processing apparatus.
상세보기
Yoo, Woo Sik, Wafer batch processing system and method.
상세보기
Sik, Yoo Woo, Wafer processing apparatus.
상세보기
Woo Sik Yoo, Wafer processing system.
상세보기

내보내기 메뉴

내보내기 구분

파일저장
인쇄
메일전송

구성항목

기본정보
상세정보

관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC

저장형식

Text(ASCII format)
Excel format
PIAS분석(.xls)

메일정보

받는사람 (필수): @
보내는사람 (선택): @
제목
내용: KISTI 검색결과 이메일 서비스

안내

총 건의 자료가 검색되었습니다.

다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000)

검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다.

데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요)

다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다.
파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오.

Text(ASCII format)
Excel format

AI-Helper ※ AI-Helper는 을 사용합니다.

AI-Helper

안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

연합인증

Bichannel radiation detection method 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

이 특허를 인용한 특허 (33)

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
저장형식	Text(ASCII format) Excel format PIAS분석(.xls)
메일정보	받는사람 (필수) @ 보내는사람 (선택) @ 제목 내용 KISTI 검색결과 이메일 서비스
안내	총 건의 자료가 검색되었습니다. 다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000) 검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다. 데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요) 다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다. 파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오. ~ Text(ASCII format) Excel format

연합인증

Bichannel radiation detection method 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

이 특허를 인용한 특허 (33)

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트