[특허]Method and apparatus for temperature measurements

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01K-011/18
출원번호	US-0537400 (1990-06-13)
발명자 / 주소	Kirillov Dimitry M. (Redwood City CA) Powell Ronald A. (Redwood City CA)
출원인 / 주소	Varian Associates, Inc. (Palo Alto CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 36 인용 특허 : 0

초록 ▼

Remote measurement of temperature of a process chamber provided with a substrate exhibiting a temperature dependent band gap which substrate is illuminated by a source of continuous spectrum light with a spectrum which overlaps the band gap edge of the substrate. The light which exits the substrate is focused by a lens and is picked up by a fiber optic which takes it to a spectrometer where the spectrum is analyzed to ascertain the intensity versus wavelength histograph for exit rays in the wavelength region of the equivalent band gap of the substrate. The wavelength at the point of infection in the region of band gap edge of the substrate in the histograph of the wavelength versus intensity characteristic of exit rays determines the real time substrate temperature from predetermined calibration data which correlates the wavelength at the point of inflection to actual temperature of the substrates.

대표청구항 ▼

Molecular beam epitaxy apparatus comprising: (a) an electrically controllable heater for radiatively controlling the temperature of a wafer substrate being processed in said apparatus; (b) a thermocouple and a heater controller, said thermocouple being connected to said heater controller for controlling said electrically controllable heater responsive to a preselected temperature; (c) a spectrometer having a detector; (d) means for causing, in operation, light rays exiting from a wafer substrate to be directed into said spectrometer; (e) means for obtaining a histograph of the intensity of the said light rays as a function of wavelength, said histograph exhibiting a point of inflection in the wavelength region of the band gap of said substrate; (f) means for determining the wavelength at said point of inflection in the said histograph including means to determine the rate of change of said intensity as a function of said wavelength; (g) means to determine the temperature of said wafer from said wavelength of said point of inflection; and (h) means to provide said determined temperature to said heater controller.

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A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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