[특허]Frequency selective radome

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H21Q-015/02 H21Q-015/24
출원번호	US-0740348 (1991-08-05)
발명자 / 주소	Schmier Robert G. (Glen Burnie MD) Lucas Eric W. (Ellicott City MD) Bingham James A. (Ellicott City MD)
출원인 / 주소	Westinghouse Electric Corp. (Pittsburgh PA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 0

초록 ▼

A freqency selective surface for passing electromagnetic wave energy and the selected frequency band is described. The device includes a conductive apertured substrate having apertures formed therein which are sized and arranged in a predetermined patern. The apertures each form a waveguide segment for electromagnetic energy. In one embodiment dielectric loading material is moldably formed directly into the apertures. In a bipolar arrangement, conductive patches are located on opposite sides of the dielectric coaxially with each waveguide for establishing a capacitive load in accordance with the area of the patches. Dielectric matching material on opposite surfaces of the substrate is employed to match the surface with external media for efficient electromagnetic wave propagation. Other arrangements employ notched patches and air dielectrics.

대표청구항 ▼

A two pole frequency selective surface for selectively passing electromagnetic wave energy comprising a conductive substrate having parallel surface portions and a plurality of through holes therein extending between the surfaces, the apertures forming waveguides for electromagnetic energy; dielectric loading means being moldably formed directly in the apertures and extending between the corresponding opposite surfaces of the substrate for loading the waveguide; conductive iris means located on each side of the dielectric means and coaxially with the waveguides for capacitively loading each waveguide.

이 특허를 인용한 특허 (18)

Wu, Chun Yih; Yeh, Shih Huang; Lin, Ken Huang; Su, Hsin Lung; Lo, Chih Yung, Antenna apparatus and antenna radome and design method thereof.
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Crouch, David D., Armored radome.
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Frenkel, Avraham, Ballistic protective radome.
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Navarro, Julio A.; Bostwick, Richard N.; Laquer, Andrew G., Ballistic resistant antenna assembly.
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Wu Te-Kao ; Toland Brent T., Dual polarization frequency selective medium for diplexing two close bands at an incident angle.
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Ohtsu Shinichi,JPX ; Mukai Makoto,JPX, Electromagnetic field intensity computing device.
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Ohtsu Shinichi,JPX ; Mukai Makoto,JPX, Electromagnetic field intensity computing device.
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Kotsuka Youji,JPX, Electromagnetic wave absorber.
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Whelan David A. (McLean VA) Fraschilla John (Redondo Beach CA) Pierce Brian M. (Moreno Valley CA), Ferro-electric frequency selective surface radome.
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Wu Te-Kao ; Macek John J. ; Bever Mark E., Frequency selective surface (FSS) filter for an antenna.
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Te-Kao Wu ; Sundeep Puri, Precision multi-layer grids fabrication technique.
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Merk, Thomas, Radome.
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Glabe, John R.; MacFarland, Andrew B.; Kuhl, Paul C.; Jackson, Thomas Barrett, Radomes, aircraft and spacecraft including such radomes, and methods of forming radomes.
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Zidek Paul A. ; Lalezari Farzin, Reactively compensated multi-frequency radome and method for fabricating same.
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Hoofe ; IV William J. (Costa Mesa CA) Schroeder John E. (Huntington Beach CA), Sectional filter assembly.
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Kviatkofsky, James F.; Wahlquist, Gary F.; Grimm, Jerry M.; Bishop, David R.; Wu, Kuang-Yuh, Shaped ballistic radome.
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Holden, Anthony J; Wiltshire, Michael C; Robbins, David J; Stewart, William J; Pendry, John B, Structure with magnetic properties.
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Batchelor, John; Sanz-Izquierdo, Benito; Parker, Edward; Robertson, Jean-Baptiste, Tuneable frequency selective surface.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

Westinghouse Electric Corp. (Pittsburgh PA 02) (1)

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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