[특허]Method of manufacturing chemically adsorbed film

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Method of manufacturing chemically adsorbed film 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B05D-003/12
출원번호	US-0810114 (1991-12-19)
우선권정보	JP-0404860 (1990-12-21)
발명자 / 주소	Yamagata Yoshikazu (Moriguchi JPX) Mino Norihisa (Settu JPX) Ogawa Kazufumi (Hirakata JPX) Soga Mamoru (Osaka JPX)
출원인 / 주소	Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (Kadoma JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 0

초록 ▼

According to the invention, a chemically adsorbing material is reacted with a substrate surface having active hydrogen groups by dipping the substrate into a solution of the chemically adsorbing material simultaneous and applying ultrasonic waves to the solution. In this way, a high concentration monomolecular and/or polymer film substantially free from pin holes can be formed in a short period of time. That is, while the ultrasonic waves are applied, a chemical adsorbing material having an end functional chlorosilyl group is adsorbed onto the substrate surface, thereby forming a chemically adsorbed monomolecular and/or polymer film. The frequency of the ultrasonic waves are suitably in a range of 25 to 50 kHz. In addition, after formation of the adsorbed film, the substrate is washed for making monomolecular film by dipping it in a washing solution while applying ultrasonic waves. In this way, non-reacted chemical adsorbing material remaining on the substrate can be efficiently washed away.

대표청구항 ▼

A method of forming a chemically adsorbed monomolecular film on the surface of a substrate, wherein the surface of the substrate contains active hydrogen groups, the method comprising: (A) preparing a chemical adsorbing material solution by dissolving a chemical adsorbing material in a non-aqueous organic solvent, said chemical adsorbing material having end functional molecular groups capable of reacting with the active hydrogen groups on the substrate surface; (B) dipping the substrate in said chemical adsorbing material solution and applying ultrasonic waves, thereby causing adsorption of the chemical adsorbing material to the substrate surface; and (C) washing non-reacted chemical adsorbing material away from the substrate surface using a non-aqueous organic solution.

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Nesbitt, Bruce, Electrosurgical electrode and method of manufacturing same.
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Kamijima, Akifumi, Method of manufacturing thin film and pretreating method thereof.
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Won, Seung Yeon; Choi, Sang Min, Musical instrument with a body made of polyurethane foam.
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Mannsfeld, Stefan Christian Bernhardt; Sharei, Armon; Bao, Zhenan, Patterning of organic semiconductor materials.
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Jayaraman Swaminathan,INX, Process for coating a surface of a metallic stent.
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Ogawa Kazufumi,JPX ; Mino Norihisa,JPX ; Soga Mamoru,JPX, Self lubricating device.
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Lohmeier, Linda Ann; Basile, Franklin Charles; Powell, Wayne; Surface, Dennis W., Transmissive surfaces and polymeric coatings therefore, for fortification of visible, infrared, and laser optical devices.
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Robinson, Timothy R.; Nelson, Leonard Y., Ultrasonic assisted deposition of anti-stick films on metal oxides.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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