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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0674594 (1991-03-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 58 인용 특허 : 0 |
Apparatus for cleaning an offset semiconductor wafer includes first and second opposed brushes circumscribing a common drive shaft. The wafer includes a circular peripheral edge. At any given instant, a first portion of the offset semiconductor wafer is positioned between and contacts the brushes wh
Apparatus for cleaning a circular semiconductor wafer, said wafer having a peripheral edge and a centerpoint spaced apart from and circumscribed by said peripheral edge, said apparatus including: (a) a first brush attached to a shaft and including a base and upstanding spaced apart resilient members
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