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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0802987 (1991-12-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 0 |
An apparatus for performing laser-assisted deposition of material on a target surface includes a reaction chamber enclosure having a window therein. The reaction chamber is partially evacuated, and a reactive gas is introduced into the reaction chamber enclosure. A laser directs a laser beam into th
Apparatus for performing laser-assisted deposition of material on a target surface, comprising: a reaction chamber enclosure having a window therein; means for introducing a reactive gas into the interior of the reaction chamber enclosure; means for partially evacuating the interior of the reaction
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