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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0802658 (1991-12-09) |
우선권정보 | JP-0418605 (1990-12-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0 |
An apparatus for photochemically decomposing a photoresist is disclosed wherein processing time can be minimized by inducing a uniform photochemical oxidative decomposing reaction over the whole surface of a base board, and an ozone gas atmosphere can be utilized efficiently. The apparatus includes
An apparatus for photochemically ashing a photoresist wherein said photoresist on an upper surface of a base board experiences photochemical oxidation decomposition as a result of ultraviolet ray irradiation in an ozone atmosphere, said apparatus comprising: a circular table adapted for rotation in
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