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Apparatus for photochemically ashing a photoresist 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B44C-001/22
  • B29C-037/00
출원번호 US-0802658 (1991-12-09)
우선권정보 JP-0418605 (1990-12-27)
발명자 / 주소
  • Ishibashi Norio (Tokyo JPX) Serizawa Izumi (Tokyo JPX)
출원인 / 주소
  • ORC Manufacturing Company, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 0

초록

An apparatus for photochemically decomposing a photoresist is disclosed wherein processing time can be minimized by inducing a uniform photochemical oxidative decomposing reaction over the whole surface of a base board, and an ozone gas atmosphere can be utilized efficiently. The apparatus includes

대표청구항

An apparatus for photochemically ashing a photoresist wherein said photoresist on an upper surface of a base board experiences photochemical oxidation decomposition as a result of ultraviolet ray irradiation in an ozone atmosphere, said apparatus comprising: a circular table adapted for rotation in

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Cekic, Miodrag; Geller, Boris, Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation.
  2. Cekic, Miodrag; Geller, Boris, Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation.
  3. Cekic, Miodrag; Geller, Boris, Apparatus and method providing substantially uniform irradiation of surfaces of elongated objects with a high level of irradiance.
  4. Benesch, Robert; Haouchine, Malik; Jacksier, Tracey, Articles of manufacture containing increased stability low concentration gases and methods of making and using the same.
  5. Benesch, Robert; Haouchine, Malik; Jacksier, Tracey, Articles of manufacture containing increased stability low concentration gases and methods of making and using the same.
  6. Benesch, Robert; Haouchine, Malik; Jacksier, Tracey, Articles of manufacture containing increased stability low concentration gases and methods of making and using the same.
  7. Jacksier, Tracey; Benesch, Robert, Increased stability low concentration gases, products comprising same, and methods of making same.
  8. Suzuki Shinji (Kawasaki JPX) Seki Kyohei (Yamato JPX) Ebashi Nobutoshi (Sagamihara JPX) Arai Tetsuji (Yokohama JPX), Method for ashing a photoresist resin film on a semiconductor wafer and an asher.
  9. Elliott, David J.; Millman, Jr., Ronald P.; Tardif, Murray; Aiello, Krista, Method for surface cleaning.
  10. Bae Koon-Ho,KRX ; Lee Sang-Yun,KRX ; Kang Hyung-Chang,KRX ; Lee Cheong-Dai,KRX ; Sung Roh-Young,KRX ; Park Sun-Dong,KRX ; Park Jong-Hyun,KRX, Ozone asher.
  11. Jacksier, Tracey; Benesch, Robert; Haouchine, Malik, Reactive gases with concentrations of increased stability and processes for manufacturing same.
  12. Jacksier, Tracey; Benesch, Robert; Haouchine, Malik, Reactive gases with concentrations of increased stability and processes for manufacturing same.
  13. Jacksier,Tracey; Benesch,Robert; Kuhn,John, Reduced moisture compositions comprising an acid gas and a matrix gas, articles of manufacture comprising said compositions, and processes for manufacturing same.
  14. Jacksier,Tracey; Benesch,Robert; Kuhn,John, Reduced moisture compositions comprising an acid gas and a matrix gas, articles of manufacture comprising said compositions, and processes for manufacturing same.
  15. Hatate, Hitoshi; Kamijima, Akifumi, Resist pattern processing equipment and resist pattern processing method.
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