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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0799136 (1991-11-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 0 |
An environmentally innocuous effective replacement for thiourea is disclosed for use as a complexing agent in displacement plating processes in which the plating solution is applied to the substrate surface to be plated by immersion or by spraying, cascading, pouring and the like. The replacement co
An aqueous plating solution for the displacement plating of a substrate metal surface with an other metal comprising: (i) a metal ion of a free metal, wherein the free metal is different from the metal of the substrate surface; (ii) a complexing agent which is a an imidazole-2-thione compound of the
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