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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0786202 (1991-10-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 63 인용 특허 : 0 |
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A method of sputtering target material onto an object by utilizing a cathode member of a sputtering apparatus, the cathode member having an exterior surface, comprising the steps of: (a) applying a liquid target material by intermediate transfer means to the exterior surface of the cathode member su
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