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Apparatus for the evaporation of liquids 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/26
출원번호 US-0762932 (1991-09-19)
우선권정보 DE-4124018 (1991-07-19)
발명자 / 주소
  • Arnold Manfred (Aschaffenburg DEX) Gegenwart Rainer (Rdermark DEX) Noll Sonja (Frankfurt DEX) Ritter Jochen (Laubach DEX) Stoll Helmut (Sulzbach DEX)
출원인 / 주소
  • Leybold Aktiengesellschaft (Hanau I DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 30  인용 특허 : 0

초록 ▼

A heated evaporator housing is provided at its inlet with an ultrasonic atomizer for reducing monomer to small droplets and a permeable porous body completely occupying a cross section of the housing between the inlet and the outlet. A vacuum pump and a reaction chamber for coating substrates are pr

대표청구항 ▼

Apparatus for the evaporation of monomers comprising an evaporator housing having an inlet, an atomizer for supplying atomized monomer at said inlet, an outlet for discharging evaporated monomer from said housing, said outlet being opposite from said inlet, and a porous body in said housing between

이 특허를 인용한 특허 (30)

  1. Hillman, Joseph T.; Yasar, Tugrul; Kubo, Kenichi; Vezin, Vincent; Yamasaki, Hideaki; Kojima, Yasuhiko; Kawano, Yumiko; Yoshikawa, Hideki, Apparatus and method for delivery of precursor vapor from low vapor pressure liquid sources to a CVD chamber.
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  2. Ma, Paul; Shah, Kavita; Wu, Dien-Yeh; Ganguli, Seshadri; Marcadal, Christophe; Wu, Frederick C.; Chu, Schubert S., Apparatus and process for plasma-enhanced atomic layer deposition.
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  3. Chen, Ling; Ku, Vincent W.; Chang, Mei; Wu, Dien Yeh; Chung, Hua, Apparatus for hybrid chemical processing.
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  4. Zhao Jun ; Luo Lee ; Jin Xiaoliang ; Chang Frank ; Dornfest Charles ; Tang Po, Chemical vapor deposition vaporizer.
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  5. Nguyen, Son T.; Sangam, Kedarnath; Schwartz, Miriam; Choi, Kenric; Bhat, Sanjay; Narwankar, Pravin K.; Kher, Shreyas; Sharangapani, Rahul; Muthukrishnan, Shankar; Deaton, Paul, Control of gas flow and delivery to suppress the formation of particles in an MOCVD/ALD system.
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  6. Woelk, Egbert; DiCarlo, Ronald L.; Shenai-Khatkhate, Deodatta Vinayak, Delivery device, methods of manufacture thereof and articles comprising the same.
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  7. Atwell David R. ; Vaartstra Brian A., Electrostatic method and apparatus for vaporizing precursors and system for using same.
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  8. Loan James F. ; Salerno Jack P., Film processing system.
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  9. Desu Seshu Babu ; Ramanathan Sasangan ; Suchicital Carlos Tres Avala, Flash evaporator.
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  10. Zhao, Jun; Dornfest, Charles; Chang, Frank; Jin, Xiaoliang; Tang, Po, High temperature filter for CVD apparatus.
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  11. Fukunaga Yukio,JPX ; Murakami Takeshi,JPX ; Ogure Naoaki,JPX ; Hongo Akihisa,JPX, Liquid material vaporizer apparatus and gas ejection device.
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  12. Toki, Ikuo, Liquid material vaporizing and feeding apparatus.
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  13. Li Ting Kai ; Gurary Alexander I. ; Scott Dane C., Liquid vaporizer system and method.
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  14. Li Ting Kai ; Scott Dane C., Liquid vaporizer system and method.
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  15. Brian A. Vaartstra ; David Atwell, Method and apparatus for vaporizing liquid precursors and system for using same.
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  16. Vaartstra Brian A. ; Atwell David, Method and apparatus for vaporizing liquid precursors and system for using same.
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  17. Woelk, Egbert; DiCarlo, Jr., Ronald L., Method for constant concentration evaporation and a device using the same.
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  18. Myo, Nyi Oo; Cho, Kenric; Kher, Shreyas; Narwankar, Pravin; Poppe, Steve; Metzner, Craig R.; Deaten, Paul, Methods for atomic layer deposition of hafnium-containing high-K dielectric materials.
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  19. Kosuke Imafuku JP; Shosuke Endo JP; Kazuhiro Tahara JP; Yukio Naito JP; Kazuya Nagaseki JP; Keizo Hirose JP, Plasma treatment method and apparatus.
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  20. Mitsuaki Komino JP, Plasma treatment method and apparatus.
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  21. Mitsuaki Komino JP; Yoshio Sakamoto JP, Plasma treatment method and apparatus.
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  22. Takenaka,Hiroto; Nishikawa,Hiroshi, Plasma treatment method and apparatus.
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  23. Tomoyasu, Masayuki; Koshiishi, Akira; Imafuku, Kosuke; Endo, Shosuke; Tahara, Kazuhiro; Naito, Yukio; Nagaseki, Kazuya; Hirose, Keizo; Komino, Mitsuaki; Takenaka, Hiroto; Nishikawa, Hiroshi; Sakamoto, Plasma treatment method and apparatus.
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  24. Cao, Wei; Chung, Hua; Ku, Vincent W.; Chen, Ling, Sequential deposition of tantalum nitride using a tantalum-containing precursor and a nitrogen-containing precursor.
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  25. Cao, Wei; Chung, Hua; Ku, Vincent; Chen, Ling, Sequential deposition of tantalum nitride using a tantalum-containing precursor and a nitrogen-containing precursor.
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  26. Lee, Myung Gi; Lee, Yong Eui; Kim, Un Jung, Source container and vapour-deposition reactor.
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  27. Sloan Jeffrey E. ; Bellegarde Eugene L., Steam cleaning system.
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  28. Gelatos, Avgerinos V.; Lee, Sang-Hyeob; Yuan, Xiaoxiong; Umotoy, Salvador P.; Chang, Yu; Tzu, Gwo-Chuan; Renuart, Emily; Lin, Jing; Lai, Wing-Cheong; Le, Sang Q., Temperature controlled lid assembly for tungsten nitride deposition.
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  29. Horie Kuniaki,JPX ; Ogure Naoaki,JPX ; Fukunaga Yukio,JPX ; Hongo Akihisa,JPX, Vaporizer apparatus.
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  30. Penman, Jr., Leslie Woodson, Vaporizer with secondary flow path.
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