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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0680072 (1991-04-03) |
우선권정보 | DE-4011017 (1990-04-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 0 |
An arrangement for generating focussed shock waves having two two-dimensional shock wave sources. The sources are of different types. In particular, an electromagnetic shock wave source is used in combination with a piezoelectric shock wave source. The arrangement has applications in no-contact lith
An arrangement for generating shock waves, comprising: a first two-dimensional shock wave source focussing onto a point; and a second two-dimensional shock wave source focussing onto said point; wherein said first and second shock wave sources are of different types, and further wherein one of said
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