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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0851785 (1992-03-16) |
우선권정보 | JP-0064816 (1991-03-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0 |
A method of flexible photovoltaic device manufacture in which an inorganic separation layer and inorganic first protective film layer are formed on a supporting substrate. On the inorganic first protective film, a first electrode, an amorphous silicon photovoltaic layer, a second electrode, and a se
A method of manufacturing a flexible photovoltaic device comprising an inorganic first protective film, a first electrode, an amorphous silicon photovoltaic layer, a second electrode and a second protective film, which method comprises: (a) forming, on a supporting substrate, an inorganic separation
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