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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0972665 (1992-11-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 64 인용 특허 : 0 |
A metal/polymeric dielectric substrate has metal conductors selectively disconnected by photoablating the polymeric dielectric with an excimer laser, etching the exposed metal using the polymeric dielectric as a mask, and coating an additional layer of polymeric dielectric. This eliminates the need
A method of disconnecting metallization in an electrical interconnect, comprising the steps of: providing an electrically conductive metallization on portions of a planar substrate; disposing a first layer of ablative photoabsorptive polymeric dielectric on and in contact with the entire top surface
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