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Device for decontaminating a semiconductor wafer container

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) A47L-015/00   
미국특허분류(USC) 134/37 ; 15/304 ; 15/310 ; 15/3161
출원번호 US-0682795 (1991-04-09)
발명자 / 주소
  • Phenix Robert B. (Milton VT) Tandy Winfield T. (Essex Junction VT)
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation (Armonk NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 0
초록
▼

A decontamination device for a wafer container having a chamber for storing semiconductor wafers and inner surfaces surrounding such chamber is provided. The device includes a support/containment assembly for providing a substantially sealed containment compartment and a gas flow assembly, mounted on the support/containment means, for supplying and filtering a substantially continuous flow of circulation gas throughout the containment compartment. Additionally, the gas flow assembly periodically directs a flow of blow-off gas towards the inner surfaces o...

대표
청구항
▼

A decontamination device for a wafer container having a chamber for storing semiconductor wafers and inner surfaces surrounding such chamber, such container including a top portion and a bottom portion, the container being placed in an open condition when the portions are connected to each other and being placed in a closed condition when id portions are detached from each other, said device comprising: a support/containment assembly which provided a substantially sealed containment compartment nd which at least initially provides a support for such wafe...

이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Stroh Ruediger Joachim,DEX ; Schweinoch Bozenka,DEX ; Trefzer Martin,DEX ; Thomas Uwe,DEX ; Allmann Erich,DEX ; Coad Craig, Apparatus for dry-cleaning dust-contaminated auxiliary objects for handling and storing semiconductor wafers.
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  3. Turner Virgil O. ; Light William D. ; Trevino Hilario T., Cleansing process for wafer handling implements.
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  8. Wu, Jung-Yuan; Huang, Kuo-Hwa, Front opening unified pod and associated method for preventing outgassing pollution.
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  13. Shimada, Shu; Takahashi, Noriyuki; Nakajima, Hiroyuki; Tanaka, Hiroko; Kanda, Nobuyuki, Method of cleaning storage case.
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  18. Yoshikawa Noriaki,JPX ; Yotsumoto Tadashi,JPX ; Muguruma Terumi,JPX ; Hasegawa Yoshitaka,JPX ; Kuroda Yuichi,JPX, Pod and method of cleaning it.
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  20. Reinhold, III, Herbert E., Pressure swing adsorption method and system for separating gas components.
  21. Hillman Gary, Silicon substrate cleaning apparatus.
  22. Hillman Gary, Silicon substrate cleaning method and apparatus.
  23. Bryer, James, Spray nozzle system for a semiconductor wafer container cleaning aparatus.
  24. Bohon, III, Ellis Gray, Vibrating wafer particle cleaner.
  25. Dolechek, Kert; Davis, Jeffry, Wafer container cleaning system.
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  27. Halbmaier,David L.; Gregerson,Barry, Wafer container washing apparatus.

IPC 상위 출원인