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Vertically oriented CVD apparatus including gas inlet tube having gas injection holes 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0809122 (1991-12-18)
우선권정보 JP-0403943 (1990-12-19)
발명자 / 주소
  • Miyazaki Shinji (Yokohama JPX) Mikata Yuichi (Kawasaki JPX) Moriya Takahiko (Yokohama JPX) Niino Reiji (Kofu JPX) Nishimura Motohiko (Yamanashi JPX)
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toshiba (Kawasaki JPX 03) Tokyo Electron Limited (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 0

초록

A vertically oriented CVD apparatus comprises a reaction chamber, a boat means vertically placed in the reaction chamber to horizontally support a plurality of semiconductor substrates, and a gas inlet tube including a plurality of gas injection holes along a longitudinal axis thereof and extending

대표청구항

A vertically oriented CVD apparatus for depositing a silicon nitride film on a plurality of semiconductor wafers comprising: a reaction chamber including an inner tube having an opened distal end and an outer tube having an exhaust port at a lower portion thereof and covering the inner tube; a boat

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Yamaga Kenichi (Sagamihara JPX) Kobayashi Toshiki (Zama JPX), Apparatus for heat treating semiconductors at normal pressure and low pressure.
  2. Inoue, Hisashi; Toiya, Masataka; Mizuno, Yoshikatsu, Direct oxidation method for semiconductor process.
  3. Kakimoto, Akinobu; Takagi, Satoshi; Ikeuchi, Toshiyuki; Komori, Katsuhiko; Hasebe, Kazuhide, Film deposition method and film deposition apparatus.
  4. Oh Seung-Ho,JPX, Film forming apparatus.
  5. McMillin Brian ; Nguyen Huong ; Barnes Michael ; Ni Tom, Gas injection system for plasma processing.
  6. Ni Tuqiang ; Demos Alex, Gas injection system for plasma processing.
  7. Ni, Tuqiang; Demos, Alex, Gas injection system for plasma processing.
  8. Ni, Tuqiang; Demos, Alex, Gas injection system for plasma processing.
  9. Shufflebotham Paul Kevin ; McMillin Brian ; Demos Alex ; Nguyen Huong ; Berney Butch ; Ben-Dor Monique, Inductively coupled plasma CVD.
  10. Singh Vikram ; McMillin Brian ; Ni Tom ; Barnes Michael ; Yang Richard, Method and apparatus for improving etch and deposition uniformity in plasma semiconductor processing.
  11. McMillin Brian ; Nguyen Huong ; Barnes Michael ; Berney Butch, Method for high density plasma chemical vapor deposition of dielectric films.
  12. Glenn A. Roberson, Jr. ; Robert M. Genco ; Robert B. Eglinton ; Wayland Comer ; Gregory K. Mundt, Molecular contamination control system.
  13. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
  14. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
  15. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
  16. Sakai, Masanori; Kagaya, Toru; Yamazaki, Hirohisa, Substrate processing apparatus and producing method of semiconductor device.
  17. Cooperberg, David J.; Vahedi, Valid; Ratto, Douglas; Singh, Harmeet; Benjamin, Neil, Tunable multi-zone gas injection system.
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