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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0232405 (1988-08-15) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 0 |
A wide band-gap semiconductor, such as a II-VI semiconductor having low bipolar resistivity and a method for producing such a semiconductor. To form this semiconductor, atomic hydrogen is used to neutralize compensating contaminants. Alternatively, the semiconductor dopant and hydrogen are introduce
A method of forming a p-n junction from a wide band-gap semiconductor, comprising forming an n-type side and a p-type side of a semiconductor by doping the n-type side to form an n-type semiconductor and doping the p-type side to form a p-type semiconductor, then introducing at least a sufficient qu
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