[특허]Device for transferring a workpiece into and out from a vacuum chamber

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Device for transferring a workpiece into and out from a vacuum chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/34
출원번호	US-0895562 (1992-06-05)
우선권정보	DE-3910244 (1989-03-30)
발명자 / 주소	Kempf Stefan (Alzenau DEX)
출원인 / 주소	Leybold Aktiengesellschaft (Hanau DEX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0

초록

A device for transferring a workpiece into and out from a vacuum chamber including a first device for receiving and holding the workpiece in a disk-shaped conveyor within the chamber and a second device for lifting and supporting the first device during the transfer process.

대표청구항 ▼

Vacuum coating apparatus comprising a vacuum chamber having a circular aperture therethrough for transferring a workpiece into and out of said chamber, workpiece support means for receiving and supporting said workpiece in said vacuum chamber, said workpiece support means having a circular shape with a larger diameter than the aperture in said vacuum chamber. conveying means in said vacuum chamber for conveying said support means in said vacuum chamber, said conveying means having recess means therein for positioning said workpiece support means relative to said conveying means, and further having an aperture therethrough in said recess means, and lifting means comprising a circular plate which moves through said aperture in said conveying means to lift said workpiece support means free of said conveying means, said circular plate having a larger diameter than said aperture in said vacuum chamber, whereby said circular plate can press said workpiece support against said vacuum chamber about said aperture therethrough.

이 특허를 인용한 특허 (12)

Kempf Stefan,DEX, Device for transporting substrates.
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Rigali, Louis A.; Hoffman, David E.; Wang, Keda; Smith, III, William F., High throughput plasma treatment system.
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Rigali,Louis A.; Hoffman,David E.; Wang,Keda; Smith, III,William F., High throughput plasma treatment system.
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Tyler, James Scott, High-speed symmetrical plasma treatment system.
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Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
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Kawaura Hiroshi,JPX, Low-pressure processing device.
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Condrashoff, Robert S.; Fazio, James P.; Hoffman, David E.; Tyler, James S., Material handling system and method for a multi-workpiece plasma treatment system.
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Condrashoff, Robert Sergel; Fazio, James Patrick; Hoffman, David Eugene; Tyler, James Scott, Material handling system and methods for a multichamber plasma treatment system.
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Freeman,Marvin L.; Hudgens,Jeffrey C.; Cox,Damon Keith; Pencis,Chris Holt; Rice,Michael; Van Gogh,David A., Method for determining a position of a robot.
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Konig Michael,DEX, Sputtering device for coating an essentially flat disk-shaped substrate.
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Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
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Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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