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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0870570 (1992-04-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 22 인용 특허 : 0 |
Metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) is used to form a layer of a metal oxide on the surfaces and within the pores of a porous ceramic material. The metal oxide is formed from one or more inexpensive metal organic precursors which permeate the pores of the substrate as a vapor. Surface re
A method of coating Al2TiO5 on a substrate, comprising the steps of: placing a substrate in an environment which can be heated and evacuated to subatmospheric pressures; introducing a vaporized aluminum organic compound into said environment and allowing said vaporized aluminum organic compound to c
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