[특허]Vapor deposition of parylene-F using 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene

Vapor deposition of parylene-F using 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00
출원번호	US-0960089 (1992-10-09)
발명자 / 주소	You Lu (Troy NY) Yang Guang-Rong (Troy NY) Lu Toh-Ming (Loudonville NY) Moore James A. (Wynantskill NY) McDonald John F. P. (Clifton Park NY)
출원인 / 주소	Rensselaer Polytechnic Institute (Troy NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 40 인용 특허 : 0

초록 ▼

A PA-F polymer film is formed using a mixture of 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene (TFB) and a halogen initiator. This mixture is provided to a low pressure reactor containing a metal catalyst. The reactor is operated at a sufficient temperature to form a reactive monomer by a chemical reaction at the surface of the catalyst. The reactive monomer is condensed on the surface of a substrate cooled to a temperature sufficiently low to induce polymerization of the reactive monomer to form a PA-F polymer film. In general, the proportion of halogen initiator is about 0.25 to 50% by volume relative to the total volume of the TFB/halogen initiator mixture. The reactor is operated at a temperature of about 200°to 700°C. and a pressure of less than about one torr. In addition, the surface of the substrate is maintained at a temperature of about -30°C. to room temperature. In the preferred approach, the halogen initiator is dibromotetrafluoro-p-xylene (DBX) and the proportion of DBX is about 1 to 5%.

대표청구항 ▼

A process for forming a parylene-F (PA-F) polymer, comprising the steps of: reacting a mixture of 1,4-bis(trifluoromethyl) benzene (TFB) and a halogen initiator in the presence of a metal catalyst at a temperature sufficiently high to form a reactive monomer; and forming said PA-F polymer on a surfa

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