[특허]Methods for making microlens arrays

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B44C-001/22 C03C-015/00 C03C-025/06
출원번호	US-0024035 (1993-03-01)
발명자 / 주소	Feldblum Avi Y. (Highland Park NJ) Mersereau Keith O. (Northampton PA) Nijander Casimir R. (Lawrenceville NJ) Townsend Wesley P. (Princeton NJ)
출원인 / 주소	AT&T Bell Laboratories (Murray Hill NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 25 인용 특허 : 0

초록 ▼

During a reactive ion etching process (FIG. 5) for making lens elements (15, FIG. 4) in a silica substrate (12), the gas constituency in the reactive ion etch chamber is changed to adjust the curvature of lens elements formed in the silica substrate and to reduce the aberrations of such lens elements. For example, two gases, CHF3 and oxygen may be supplied to the reactive ion etch chamber and, during the reactive ion etch process, the proportion of oxygen is significantly reduced, which reduces the aberrations of the lens elements formed by the process.

대표청구항 ▼

A method of forming a lens array comprising the steps of: forming a plurality of first elements of a first material overlying a substrate of a second material; at least partially melting the first elements to cause them to have curved upper surfaces and thereafter solidifying the first elements; locating the substrate and the first elements in a reactive ion etch chamber having gas input apparatus; reactive ion etching the substrate and said plurality of first elements such that differential etching of the substrate produces lens elements in the substrate; wherein the improvement comprises: during the reactive ion etch step, deliberately changing the gas constituency in the reactive ion etch chamber to adjust the curvature of lens elements formed in the substrate and to reduce aberrations of such lens elements.

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