[특허]Apparatus for exposing periphery of an object

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Apparatus for exposing periphery of an object 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01B-011/14 G03B-027/42
출원번호	US-0004788 (1993-01-14)
우선권정보	JP-0109291 (1989-04-28); JP-0147174 (1989-06-09); JP-0209850 (1989-08-14)
발명자 / 주소	Kiyokawa Shinji (Kyoto JPX) Orgami Nobutoshi (Kyoto JPX) Takada Takeshi (Kyoto JPX) Kamei Kenji (Kyoto JPX)
출원인 / 주소	Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. (JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 0

초록 ▼

A periphery exposing apparatus for exposing a periphery of a wafer having a curved circumferential peripheral portion and a linear portion comprises a spin chuck for rotatably supporting the wafer, a light source disposed above the spin chuck for exposing the wafer periphery, and a detector for detecting the line or portion. When the linear portion is being exposed, the light source is moved along the linear portion, rather than circularly around the periphery.

대표청구항 ▼

A periphery exposing apparatus for exposing a periphery of a wafer having a linear portion, wherein resist is located on said wafer, said apparatus comprising: supporting means for rotatably supporting said wafer; illuminating means for emitting light to expose said periphery, said illuminating means being effective to remove said resist by illuminating said wafer; exposure position detecting means for detecting exposure positions of the periphery of said wafer, said exposure position detecting means comprising linear portion detecting means for detecting said linear portion; controlling means including exposure width setting means for controlling said supporting means and said illuminating means such that exposure of said periphery is carried out under prescribed exposure conditions, said exposure width setting means being effective to control said illuminating means so that said periphery of said wafer is exposed in accordance with exposure widths corresponding to said exposure positions; and means for moving said illuminating means such that said illuminating means is movable both in a generally radial direction relative to said wafer and in a generally tangential direction relative to said wafer, said controlling means being effective to control said moving means so that said illuminating means is moved substantially tangentially and relatively along said linear position when said linear portion is exposed.

이 특허를 인용한 특허 (14)

Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
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Kurokawa,Shuji, Alignment apparatus.
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Sato, Masanori; Shindo, Yutaka, Device for exposure of a peripheral area.
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Nagai, Yoshinori; Tochihara, Kazumoto, Device for exposure of a peripheral area of a wafer.
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Nara Kei,JPX ; Naraki Tsuyoshi,JPX, Exposure method and scanning type exposure apparatus.
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Mcmillan, Wayne; Wolters, Christian, Illumination energy management in surface inspection.
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Akiyama Kazuya,JPX ; Kamei Kenji,JPX ; Yamamoto Satoshi,JPX, Periphery exposing apparatus and method.
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Saeki Hiroaki,JPX, Positioning apparatus and process system having the same.
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Shibuya Isamu,JPX ; Minore Takeshi,JPX ; Mimura Yoshiki,JPX, Process for exposing a peripheral area of a wafer and a device for executing the process.
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Mimura Yoshiki,JPX ; Minobe Takeshi,JPX ; Miura Shinetsu,JPX, Process for exposing the peripheral area of a semiconductor wafer for removing unnecessary resist on the semiconductor.
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Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
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Makinouchi Susumu,JPX ; Ueda Toshio,JPX, Scanning type exposure apparatus.
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Inenaga,Masamichi; Katsuda,Shinichi; Arinaga,Yuji, Wafer pre-alignment apparatus and method.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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