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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0773477 (1991-10-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 165 인용 특허 : 0 |
A polishing pad is provided, having its face shaped to produce controlled nonuniform removal of material from a workpiece. Non-uniformity is produced as a function of distance from the pad\s rotational axis (the working radius). The pad face is configured with both raised, contact regions and voided
A polishing pad rotatable about a central axis, said pad having a circular, planar face perpendicular to said axis, said face to be brought in spinning contact with a workpiece during a polishing operation, said face comprising both raised and voided regions, said raised and voided regions being con
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