최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0910879 (1992-07-10) |
우선권정보 | DE-4122802 (1991-07-10) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 40 인용 특허 : 0 |
An arrangement for coupling microwave energy with a reaction chamber, including electrically stable tuning and being, within limits, tolerant against changes in critical dimensions and power fluctuations. A coaxial line between a hollow waveguide and the reaction chamber is of such a structure that
An arrangement for coupling microwave energy into a reaction chamber (14) with a waveguide (2) comprising: (a) a plasma CVD coating device (16) within the reaction chamber (19); (b) a coaxial waveguide (4) located between the waveguide (2) and the reaction chamber (14) wherein (c) the coaxial wavegu
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.