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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0973994 (1992-11-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 40 인용 특허 : 0 |
A method for making a free-standing synthetic diamond film of desired thickness, including the following steps: providing a substrate; selecting a target thickness of diamond to be produced, the target thickness being in the range 200 microns to 1000 microns; finishing a surface of the substrate to
A method for making a free-standing synthetic diamond film of a target thickness, comprising the steps of: providing a substrate; selecting a target thickness of diamond to be produced, said target thickness being in the range 200 microns to 1000 microns; finishing a surface of the substrate to a ro
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