[특허]Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol

Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F26B-005/04
출원번호	US-0888477 (1992-05-22)
발명자 / 주소	Roberson Jr. Glenn A. (Hollister CA) Eglinton Robert B. (Montery CA)
출원인 / 주소	Semifab Incorporated (Hollister CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 33 인용 특허 : 0

초록 ▼

A device for drying articles such as semiconductor wafers comprising a vacuum process chamber for holding articles to be dried; a vapor generator substantially isolated from the process chamber for supplying a substance such as isopropyl alcohol in vapor form to the process chamber; a heater for heating the walls of the process chamber to discourage the substance vapor from condensing on the inside walls of the process chamber. The device can also be used for rinsing and cleansing articles prior to drying.

대표청구항 ▼

A method for drying articles in a process chamber after the articles have been washed in a liquid, the method comprising the steps of: evacuating air from the process chamber; supplying vapor of a volatile low vapor pressure liquid substance to said process chamber from a source external to said pro

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