최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0158490 (1993-11-29) |
우선권정보 | JP-0316377 (1989-12-07) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 0 |
A photosensitive composition contains a polyimide constituted by a repeating unit having a hydroxyl group and a repeating unit having a siloxane bond, or a repeating unit having a hydroxyl group, a repeating unit having a siloxane bond, and a repeating unit other than these two repeating units, and
A positive photosensitive composition comprising: a photosensitive agent comprising an amide-ester compound of naphthoquinonediazidesulfonic acid or benzoquinonediazide-sulfonic acid represented by the following formula: [Figure] wherein R3 represents a divalent aromatic group and D represents a res
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.