최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0143721 (1993-11-01) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 0 |
A method of cleaning a substrate includes: (1) lathing a substrate surface with a cutting fluid composition containing (A) an antioxidant, (B) a surfactant, (C) a lubricant, and (D) water; (2) rinsing the lathed substrate surface with high quality deionized water having a resistivity of at least 2M
A method of cleaning a substrate comprising: (1) lathing a substrate surface with a cutting fluid composition comprising: (A) at least one antioxidant; (B) at least one surfactant; (C) at least one lubricant; and (D) water; (2) rinsing the lathed substrate surface with deionized water having a resis
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.