[특허]Method for cleaning a substrate

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Method for cleaning a substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-003/04 B08B-003/12 C03C-023/00
출원번호	US-0973672 (1992-11-09)
우선권정보	JP-0297549 (1991-11-14)
발명자 / 주소	Kodama Hiroyuki (Yokohama JPX)
출원인 / 주소	Nikon Corporation (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 0

초록 ▼

A substrate cleaning method and equipment for removing foreign metters adhered to a substrate, the method comprising the steps of: making hydrophilic a surface of the substrate; causing pure water to diffusively permeate the hydrophilic surface of the substrate, thereby forming a layer of aqueous particles on the substrate surface; removing the foreign matters on the substrate in which the pure water diffusively permeated; and dipping, into hot pure water, the substrate in which the pure water diffusively permeated and then drying the substrate surface by relatively moving the hot water and the substrate.

대표청구항 ▼

A cleaning method for removing foreign matter adhered to a surface of a glass substrate, comprising the steps of: making said surface of said glass substrate hydrophilic; showering said hydrophilic surface with pure water supplied from shower means to cause the pure water to diffusively permeate said hydrophilic surface and form a layer of aqueous molecules thereon; removing foreign matter from said permeated surface; and thereafter dipping said glass substrate into a bath of hot pure water and drying said surface by relatively moving said bath and said substrate.

이 특허를 인용한 특허 (19)

Ikuta, Yoshiaki, Apparatus and method for cleaning substrate.
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Bergman, Eric J.; Hess, Mignon P., Apparatus and method for delivering a treatment liquid and ozone to treat the surface of a workpiece.
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Bergman, Eric J., Apparatus for treating a workpiece with steam and ozone.
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Yoshida, Takashi; Iwasaki, Motoaki; Yano, Tatsuro; Habaya, Kurao; Shiroma, Takahiro, Cleaning method and apparatus.
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Tange,Koji; Nagamura,Yoshikazu; Hosono,Kunihiro; Kikuchi,Yasutaka; Oomasa,Yuki; Kido,Koichi, Cleaning process for photomasks.
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Nakano Masami (Fukushima-ken JPX) Uchiyama Isao (Fukushima-ken JPX) Takamatsu Hiroyuki (Fukushima-ken JPX) Suzuki Morie (Fukushima-ken JPX), Method of cleaning silicon wafers in cleaning baths with controlled vertical surface oscillations and controlled in/out.
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Suzuki, Masaaki, Method of cleaning substrate.
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Suzuki Masaaki,JPX, Method of cleaning substrate using ultraviolet radiation.
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Masaaki Suzuki JP, Method of washing substrate with UV radiation and ultrasonic cleaning.
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Bergman, Eric J., Methods for cleaning semiconductor surfaces.
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Bergman, Eric J., Methods for cleaning semiconductor surfaces.
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Bergman,Eric J., Methods of thinning a silicon wafer using HF and ozone.
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Zieger, Claus Dieter; Zieger, Niclas Henning; Buzzi, Guenther, Multiple proportion delivery systems and methods.
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Bergman, Eric J., Process and apparatus for treating a workpiece such as a semiconductor wafer.
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Gebhart,Thomas Maximilia; Bergman,Eric J., Process and apparatus for treating a workpiece using ozone.
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Bergman,Eric J., Process and apparatus for treating a workpiece with gases.
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Bergman,Eric J., Processing a workpiece using water, a base, and ozone.
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Bergman,Eric J.; Gebhart,Thomas Maximilian, System and methods for polishing a wafer.
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Suzuki, Masaaki, Washing apparatus with UV exposure and first and second ultrasonic cleaning vessels.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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